[发明专利]一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法

权利要求书

1.一种组合淋釉装置，包含主釉缸(5)，主釉缸釉泵(3)，主釉泵输釉管(20)，淋釉斗(19)，回釉管(18)，淋釉钟罩(17)，集釉管(14)，主釉缸釉泵(3)具有第一泄流孔(8-1)，集釉管(14)上连接一集釉斗(15)，其特征在于，还包含：

一副釉缸(12)及与之配合的副釉缸釉泵(16)，副釉缸釉泵(16)具有第二泄流孔(8-2)；

一副釉泵输釉管(13)，其入口端设置于副釉缸(12)内，出口端延伸至主釉缸(5)；

所述副釉缸(12)内的釉浆(9)通过副釉缸釉泵(16)及副釉泵输釉管(13)输送入至主釉缸(5)内；

一溢流管(11)，其入口端设置于主釉缸(5)的靠近顶部位置，出口端延伸至副釉缸(12)，主釉缸(5)内釉浆(9)通过溢流管(11)回流至副釉缸(12)；

所述回釉管(18)延伸至副釉缸(12)；

所述集釉管(14)延伸至副釉缸(12)。

2.如权利要求1所述的组合淋釉装置，其特征在于：

所述主釉缸(5)和副釉缸(12)均为包含釉缸外壁(22)和釉缸内壁(24)的双层结构；

所述釉缸外壁(22)和釉缸内壁(24)之间设置有镙旋形分隔层(26)并形成有镙旋形冷却液通道(23)；

所述镙旋形冷却液通道(23)的入口(7)设在釉缸缸体底部外壁上，出口(6)设在釉缸缸体外壁上部与外界相通。

3.如权利要求2所述的组合淋釉装置，其特征在于：

所述主釉缸(5)设置有第一过筛网(4-1)，所述副釉泵输釉管(13)的出口端与之相对；

所述副釉缸(12)设置有第二过筛网(4-2)和第三过筛网(4-3)，所述溢流管(11)的出口端与第二过筛网(4-2)相对，所述回釉管(18)和集釉管(14)的出口端与第三过筛网(4-3)相对。

4.如权利要求2所述的组合淋釉装置，其特征在于：

所述主釉缸(5)和副釉缸(12)底部均设有底部固定凹口(25)，该底部固定凹口(25)呈圆形分散布置，底部固定凹口尺寸大于釉泵支撑脚面大小。

5.一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，使用权利要求1至4中任一项中所述的组合淋釉装置，其特征在于：

将釉浆(9)加入副釉缸(12)，釉浆(9)液位第二泄流孔(8-2)时，启动副釉缸釉泵(16)，使得釉浆处于搅拌状态；

当釉浆液位接近溢流管时，打开副釉泵输釉管(13)上的阀门，让釉浆经副釉泵输釉管(13)输送到主釉缸第一过筛网(4-1)过筛流到主釉缸；

持续往副釉缸(12)添加釉浆，到主釉缸的釉浆(9)从溢流管(11)顺畅回流到副釉缸第二过筛网(4-2)过筛流回副釉缸(12)，调节副釉泵输釉管(13)上的阀门的开度，使副釉泵输釉管(13)输釉流量小于溢流管(11)的最大可流出量；

接通主釉缸釉泵(16)的电源，釉泵叶片(10)旋转，让主釉缸中的釉浆(9)处于搅拌状态；

打开主釉缸输釉管(20)上的阀门，让釉浆(9)输送到淋釉斗(19)，当淋釉斗(19)上的回釉管(18)有釉浆流出时，打开淋釉斗(19)下部阀门，让釉浆流下到淋釉钟罩(17)形成釉浆帘幕。

6.如权利要求5所述的淋釉方法，其特征在于：实时调整主釉缸输釉管(20)上的阀门使得淋釉斗(19)的液位处于回釉溢流孔内高度的20-50％。

7.如权利要求6所述的淋釉方法，其特征在于：实时调整副釉泵输釉管(13)上的阀门开度主釉缸(5)中的釉浆液位要处于溢流口内高度的20-50％。

8.如权利要求7所述的淋釉方法，其特征在于：所述副釉缸向主釉缸输送流量要大于主釉缸向淋釉斗的输送流量，多的部分经溢流管(11)流回副釉缸(12)。

9.如权利要求8所述的淋釉方法，其特征在于：所述主釉缸(5)向淋釉斗(19)输送釉浆量要大于淋釉斗(19)向淋釉钟罩(17)输送釉量，多的部分经回釉管(18)流回副釉缸(12)。

10.如权利要求9所述的淋釉方法，其特征在于：所述淋釉钟罩(17)形成釉浆帘幕，砖坯在皮带的输送下在釉浆帘幕下通过，釉浆淋于砖坯面上，多余的釉浆经集釉斗(15)收集流回副釉缸(12)。