[发明专利]一种高产冬瓜的种植方法

说明书

本发明公开了一种高产冬瓜的种植方法，主要包括以下步骤：土地处理、浸种处理、播种、苗期管理、田间管理、收获采摘；与现有冬瓜种植技术相比，本发明具有极显著的优点，采用上述技术方案进行冬瓜种植，绿色、环保、无污染，冬瓜长速度快，植株健壮，抗逆性强，本发明采用人工方法栽培种植冬瓜，对冬瓜种子的进行处理可提高种子的品质，防治病虫害，打破种子休眠，促进种子萌发整齐和幼苗键壮生长。通过苗期处理不仅能够促进植株生长，促进冬瓜植株的生长发育，提高了冬瓜植株的开花率和坐果率，从而提高冬瓜的产量，并且还能提高冬瓜微量元素的吸收和积累，提高冬瓜的营养价值，本发明种植的冬瓜优质高产，经济效益高。

技术领域：

本发明涉及一种种植方法，特别是涉及一种高产冬瓜的种植方法，属于蔬菜种植技术领域。

背景技术：

冬瓜葫芦科冬瓜属一年生蔓生或架生草本植物，茎被黄褐色硬毛及长柔毛，有棱沟，叶柄粗壮，被粗硬毛和长柔毛，雌雄同株，花单生，果实长圆柱状或近球状，大型，有硬毛和白霜，种子卵形。农民一般没有科学的种植方法，盲目与随意性大；尤其是施肥，种植冬瓜大部分农民都是用传统的方式盲目施肥，不仅大量浪费资源、污染环境，更重要的是化肥利用率随着量的不断扩大而随之大幅降低，同时导致冬瓜技叶疯长甚至引起病虫害暴发和倒伏现象普遍存在，综合多方面因素，冬瓜生产成本不断上升而产量却得不到提高，品质还逐渐下降。

发明内容

为此，本发明的目的是一种高产冬瓜的种植方法。

本发明通过以下技术方案实现：一种高产冬瓜的种植方法，主要包括以下步骤：

(1)土地处理：选择壤土，土壤酸碱度为6.3-6.8，深翻土地30-45厘米后，按每平米3重量份将土壤处理剂与土壤均匀混合到一起，然后采用薄膜封住土地，15-18天后揭开薄膜，再采用微波处理土壤15min，微波功率在10kW-20kW范围内，微波10kW的功率开始处理土壤，每隔一分钟，增加1kW，直至第15分钟，处理的微波功率达到20kW，通过处理，可以改变土壤的物理特性，杀死土壤中的细菌、真菌，提高土壤的肥力，促进冬瓜的生长发育，提高冬瓜的产量；所述土壤处理剂按重量百分比计由以下成分制成：3.15％乙醇、0.35％硼砂、0.15％硫酸亚铁、0.35％山梨酸钾、1.8％碳酸氢钠，其余为水；

(2)浸种处理：先将冬瓜种子在太阳下晾晒，使得种子内水分重量百分比在23.51％-26.14％，再采用浸种剂浸种5-8小时，通过浸种处理，能提高冬瓜种皮的通透性，提高冬瓜种子胚根和胚轴的发育，对子叶的肥大具有极大的促进作用，提高了冬瓜种子的发芽率，降低了死种率，节约了大量生产成本和生产时间，所述浸种剂为按重量百分比计由3.5％乙醇、0.5％硼砂、0.001％赤霉素、0.1％甘露糖、0.65％天冬氨酸，其余为水构成；

(3)播种：将气温控制为18-22℃，进行播种，播种的时候，先对土地表面泼洒质量浓度为1.25％碳酸氢钠溶液至土层1.3-1.7厘米深度湿润，然后开始播撒种子，通过在播种前，先喷洒碳酸氢钠溶液，不仅能起到先湿润土地的作用，还能促进种子萌发，促进幼根发育增粗，提高植株的活力和抗性，极大的提高了种子发芽率；

(4)苗期管理：自冬瓜种子萌动到子叶展开期间，将气温控制在18-20℃，冬瓜种子子叶展开后到真叶显露期间，将气温控制在21-23℃，从真叶显露到形成一个叶序期间，将气温控制到23-25℃，当植株再长出1-2个叶序时，继续保持23-25℃，并且喷洒生长助剂，冬瓜种子分时期控制气温，能够促进冬瓜种子不同时期的生长发育，缩短生长周期，通过喷洒生长助剂，能够促进植株生长，促进冬瓜植株的生长发育，提高了冬瓜植株的开花率和坐果率，从而提高冬瓜的产量，并且还能提高冬瓜微量元素的吸收和积累，提高冬瓜的营养价值，所述生长助剂按重量百分比计由以下成分制成：1.2％氯化钙、0.95％壳聚糖、5.0％氯化钾、4.9％过磷酸钙、6.8％氯化铵、0.01％西咪替丁、0.05％硼酸钠、0.5％柠檬酸钠，其余为水；