[发明专利]与外涂布光致抗蚀剂一起使用的涂料组合物有效
申请号: | 201611015528.1 | 申请日: | 2016-11-18 |
公开(公告)号: | CN106814543B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 沈载桓;赵廷奎;E·曹;李惠元;朴琎洪;E·H·柳;林载峰 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;C09D133/14;C08F8/14;C08F120/32 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;胡嘉倩 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 外涂布光致抗蚀剂 一起 使用 涂料 组合 | ||
1.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法,其包含:
a)在衬底上涂覆涂料组合物层,所述涂料组合物包含:
1)包含一个或多个缩水甘油基的第一树脂;
2)包含一个或多个儿茶酚基团的第二树脂;
b)将光致抗蚀剂组合物层涂覆在所述涂料组合物层上;以及
c)将所述光致抗蚀剂组合物层暴露于活化辐射并显影暴露的光致抗蚀剂组合物层,以提供光致抗蚀剂浮雕图像。
2.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法,其包含:
a)在衬底上涂覆涂料组合物层,所述涂料组合物包含树脂,所述树脂包含1)一个或多个缩水甘油基和2)一个或多个芳香族基两者,每个芳香族基包含两个或更多个包含羟基、硫醇和/或胺部分的取代基;
b)将光致抗蚀剂组合物层涂覆在所述涂料组合物层上;以及
c)将所述光致抗蚀剂组合物层暴露于活化辐射并显影暴露的光致抗蚀剂组合物层,以提供光致抗蚀剂浮雕图像。
3.根据权利要求1到2中任一项所述的方法,其中光致抗蚀剂浮雕图像通过湿式蚀刻工艺转印到衬底。
4.根据权利要求1到2中任一项所述的方法,其中所述衬底包括SiO2或TiN。
5.一种经涂布衬底,其包含:
衬底,其上具有:
a)包含涂料组合物,所述涂料组合物包含:
1)包含一个或多个缩水甘油基的第一树脂;
2)包含一个或多个儿茶酚基团的第二树脂;以及
b)在所述涂料组合物层上的光致抗蚀剂组合物层。
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