[发明专利]抛光盘

说明书

本发明公开了一种抛光盘，包括抛光盘主体，所述的抛光盘主体上设置有环形凹槽，该环形凹槽以抛光盘主体的中心为圆心设置；所述的环形凹槽内设置有穿透抛光盘主体的通孔。本发明的抛光盘有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。

技术领域

本发明涉及平面抛光设备技术领域，特别是一种抛光盘。

背景技术

抛光是基于研磨后的一道更为精细的工序。平面抛光机是一种专门处理工件表面光亮度的设备，在它上面有一个重要的配置----抛光盘。抛光盘的选择是非常重要的，它一定程度上影响着工件表面抛光的具体效果，是抛光程序中不可或缺的重要部分。在抛光的时候，视线要集中在抛光盘的边缘，不要超出边角位，以防止抛穿边角位。

现有的抛光盘，在抛光玻璃时，抛光盘在转动过程中，因长时间转动摩擦所产生的热量无法排出，多的抛光液回流不及时，造成抛光盘热量增加，从而致使光坯脱落，造成不良，同时光盘周边抛光液溅射，影响环境。

发明内容

基于此，针对上述问题，有必要提出一种抛光盘，该抛光盘有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。

本发明的技术方案是：一种抛光盘，包括抛光盘主体，所述的抛光盘主体上设置有环形凹槽，该环形凹槽以抛光盘主体的中心为圆心设置；所述的环形凹槽内设置有穿透抛光盘主体的通孔。

经过改进后的抛光盘，抛光盘主体上设置环形凹槽后，有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，环形凹槽内设置的通孔同时改善了抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。

优选地，所述的环形凹槽上均匀设置有至少两个通孔。

多个通孔可以加快抛光液的回流，防止回流速度不够仍然导致抛光液规程外溅。

优选地，所述的抛光盘主体上均匀设置有至少两个环形凹槽，所述的至少两个环形凹槽均以抛光盘主体的中心为圆心设置。

同心设置多个环形凹槽，可以进一步降低在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，另外也可以进一步改善抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。

优选地，所述抛光盘主体上相邻两个环形凹槽间的距离为L，且2cm≦L≦4cm。

同心设置的多个环形凹槽，如果相邻两个环形凹槽间的距离过小，会影响整体结构稳定性，如果过大，那么设置的环形凹槽数量会变少，不利于降低在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量，以及改善在抛光过程中抛光液回流及时，减少抛光液外溅现象，改善抛光过程中的环境卫生，结合大量实践得出，2cm≦L≦4cm为最优。

本发明的有益效果是：

1、结构简单，改进成本低，有效降低了在抛光转动过程中抛光盘所产生的热量；

2、改善了抛光液在抛光过程中回流及时，减少抛光液外溅现象，改善了抛光过程中的环境卫生。

附图说明

图1为现有抛光盘的结构示意图；

图2为本发明实施例的结构示意图。

附图标记：10-抛光盘主体，20-环形凹槽，30-通孔。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。

实施例