[发明专利]显示器阵列基板画素结构及其应用的显示设备

说明书

本发明为一种显示器阵列基板画素结构及其应用的显示设备，包括多个阵列排列的画素单元，每个所述画素单元均包括第一子画素、第二子画素和第四子画素，其特征在于，每个所述画素单元均更包括：一第四子画素电极，所述第四子画素电极包括第一画素电极，第二画素电极及第四画素电极，分别位于所述第四子画素的四个区域，且该第一画素电极，第二画素电极，第三画素电极及第四画素电极分别分割成至少二个补偿区，用以回馈修正至少二个补偿区的电极线宽，以改善所述第四子画素电极的狭缝变异所造成的亮度差异；以及一第一子画素电极及一第二子画素电极，分别位于所述第一子画素及第二子画素。

技术领域

本发明涉及一种电极设计方式，特别是涉及一种显示器阵列基板画素结构及其应用的显示设备。

背景技术

Mura一词本来是一个日本字，随着日本的液晶显示器在世界各地发扬光大，这个字在显示器界就变成一个全世界都可以通用的文字，而Mura是指显示器亮度不均匀造成各种痕迹的现象，最简单的判断方法就是在暗室中切换到黑色画面以及其他低灰阶画面，然后从各种不同的角度仔细观察，随着各式各样的制程瑕疵，液晶显示器就有各式各样的Mura，可能是横向条纹或四十五度角条痕，可能是切得很直的方块，可能是某个角落出现一块，可能是花花的完全没有规则可言东一块西一块的痕迹。

因此一般Mura皆因显示屏上亮度分布不均所造成。在垂直配向(VerticalAlignment，VA)型/平面转换(In-Plane Switching，IPS)型/边缘场开关(Fringe FieldSwitching，FFS)型的画素设计上，画素电极一般都设计成狭缝状，其线宽的控制影响液晶效率甚钜。在一种用于显示器阵列基板画素设计的工艺中，不同颜色的子画素之间可能会产生段差。在此工艺中，子画素因为严重段差(由于平坦层的宽度落差)而导致曝光显影蚀刻工艺对ITO slit(氧化铟锡狭缝)线宽控制更难掌握，因此容易造成穿透率不稳定的问题。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明的目的在于，提供一种用于显示器阵列基板画素结构，不仅可以有效解决Mura问题，同时提升改善第四子画素ITO slit(氧化铟锡狭缝)变异所造成的亮度差异。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种显示器阵列基板画素结构，包括多个阵列排列的画素单元，每个所述画素单元均包括第一子画素、第二子画素和第四子画素，其特征在于，每个所述画素单元均更包括：一第四子画素电极，所述第四子画素电极包括第一画素电极，第二画素电极，第三画素电极及第四画素电极，分别位于所述第四子画素的四个区域，且该第一画素电极，第二画素电极，第三画素电极及第四画素电极分别分割成至少二个补偿区，用以回馈修正至少二个补偿区的电极线宽，以改善因所述第四子画素电极的狭缝变异而造成的亮度差异；以及一第一子画素电极及一第二子画素电极，分别位于所述第一子画素及第二子画素；其中所述该第一画素电极分割成三个补偿区为第一内层画素电极，第一中层画素电极及第一外层画素电极，且该第一内层画素电极，第一中层画素电极及第一外层画素电极的电极线宽分别为该第一子画素电极、第二子画素电极线宽的80％～120％；所述该第二画素电极分割成三个补偿区为第二内层画素电极，第二中层画素电极及第二外层画素电极，且该第二内层画素电极，第二中层画素电极及第二外层画素电极的电极线宽分别为该第一子画素电极、第二子画素电极线宽的80％～120％；所述该第三画素电极分割成三个补偿区为第三内层画素电极，第三中层画素电极及第三外层画素电极，且该第三内层画素电极，第三中层画素电极及第三外层画素电极的电极线宽分别为该第一子画素电极、第二子画素电极线宽的80％～120％。

本发明的另一目的为提供一种液晶显示面板，包括：第一基板；第二基板，与该第一基板相对设置；液晶层，设置于该第一基板与该第二基板之间；其特征在于：还包括所述的显示器阵列基板画素结构，设置于该第一基板与该第二基板之间。且更包括第一偏光片设置于该第一基板的一外表面上；以及第二偏光片设置于该第二基板的一外表面上，其中该第一偏光片与该第二偏光片的偏振方向为互相平行。