[发明专利]药物合成装置

权利要求书

1.一种药物合成装置，其特征在于：所述药物合成装置包括正压室和负压室，其中正压室是由相互连接的壁构成的箱体，所述正压室的正面壁上设置有第一开口部，所述正压室的内部设置有用于合成和容纳药物的药物合成组件，所述正压室的内部具有高于大气压的第一气压；负压室位于正压室的外部，并且至少覆盖第一开口部，所述负压室内具有低于第一气压的第二气压，正压室内的气体通过压力差进入负压室。

2.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室和负压室之间设置有一个邻接于所述正面壁的独立空间，正压室内的气体通过所述独立空间进入负压室内。

3.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室具有排气口，用于排出正压室内的气体。

4.如权利要求1～3任一项所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室具有：

升压机构，用于增加正压室内部的压力；和

第一过滤器，用于净化升压机构注入正压室的气体。

5.如权利要求3所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室的排气口上连接有限压阀和第二过滤器，限压阀用于控制正压室内的压力，第二过滤器用于过滤通过限压阀排出的气体。

6.如权利要求1～3任一项所述的药物合成装置，其特征在于，所述负压室具有减压机构和与减压机构连接的第三过滤器，所述减压机构包括气体减压阀、抽气泵或排气用的鼓风机，用以使负压室的第二气压低于正压室内的第一气压，第三过滤器用于过滤通过减压机构排出的气体。

7.如权利要求3所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室的排气口与负压室连通，使正压室与负压室共用一个减压机构，用以将正压室内的气体排放到负压室内。

8.如权利要求3所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室的排气口位于负压室外部，使正压室与负压室设置有相互独立的减压机构，用以分别将正压室和负压室内的气体排放出去。

9.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，构成所述正压室的相互连接壁包括正面壁、背面壁、左侧壁、右侧壁、顶壁和底壁，其中正面壁和背面壁分别与顶壁、右侧壁、底壁和左侧壁相连；所述负压室覆盖所有构成所述正压室的相互连接的壁。

10.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，构成所述正压室或所述负压室的壁由能够抑制放射性射线穿透的放射线屏蔽材料组成。