[发明专利]一种微纳PSS制备用软膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种微纳PSS制备用软膜，还涉及上述微纳PSS制备用软膜的制造方法。

背景技术

发光二极管（LED）是一种电光转换、高效节能、绿色环保、寿命长等优点，在交通指示、户内外全色显示、液晶电视背光源等方面有着广泛的应用，尤其是用LED可以实现半导体固态照明，其有望成为新一代光源进入千家万户，引起人类照明史上的革命，其中蓝宝石衬底生长氮化镓外延的蓝光LED芯片上涂敷黄光荧光粉，蓝光激发荧光粉发出黄光，蓝光与黄光混合得到白光，从而用蓝光LED得到白光。氮化镓衬底材料常见有二种，即蓝宝石和碳化硅，碳化硅机械加工性能差，价格昂贵以及专利方面的问题使其应用得到限制，因此当前用于氮化镓外延生长的衬底主要是蓝宝石，氮化镓外延层与蓝宝石的晶格失配度相当大，残余内应力较大，所以在蓝宝石上生长氮化镓容易造成大量的缺陷，而这些缺陷大大降低发光器件发光效率；同时GaN与空气间存在较大的折射率的差异，光出射角度较小，很大部分被全反射回到LED芯片内部，降低了光的提取效率，增加散热难度，影响LED器件的可靠性。采用纳米级PPS衬底技术可大大降低氮化物材料的位错的密度，缓和外延生长时产生的残余内应力，提高内量子效率，光提取效率大大改善。

在进行微纳PSS制备的过程中，在进行曝光处理时，需要将软膜与胶深度接触，而软膜一般采用树脂材质的，因此会导致胶对软膜造成污染，同时也降低了软膜的使用寿命，为了提高软膜的使用寿命，现研究出一种新的微纳PSS的制备方法，在进行曝光处理时，软膜只需与胶微接触即可实现被曝光区域未曝光区，因此针对该工艺的改进，需要研究一种新的软膜。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种微纳PSS制备用软膜，以及上述微纳PSS制备用软膜的制造方法。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案为：一种微纳PSS制备用软膜制造方法，其创新点在于：包括下述步骤：

a）硬膜制备：首先，根据所需图形采用Si或SiC基板制备出硬膜；

b）软膜制备：根据制备的硬膜利用树脂注塑成型制备出软膜半成品；

c）镀金属膜：在软膜半成品上镀一层厚度在150nm以上的高反射率金属膜；

d)去金属膜：采用干法ICP刻蚀去除需曝光处的金属膜，从而形成所需的软膜。

进一步的，所述步骤c中，采用电子束蒸镀或磁控溅射法镀金属膜，镀膜速率为5A/S。

进一步的，所述步骤d中，干法ICP刻蚀的刻蚀速率10A/S。

一种利用上述微纳PSS制备用软膜制造方法制得的软膜，其创新点在于：包括一软膜主体，该软膜主体呈长方体状，在软膜主体的长轴方向的一侧设置有梳齿组；所述梳齿组由若干并列等距分布的梳齿共同构成，在相邻的两个梳齿所形成的凹槽的内壁上还设置有高反射金属层，且高反射金属层覆盖住相邻两个梳齿所形成的凹槽。

本发明的优点在于：本发明中的软膜，通过在相邻的梳齿所形成的凹槽的内壁增设高反射金属层，在进行曝光处理时，光在经过软膜时，部分光会被高反射金属层所阻挡，即可形成被曝光区域未曝光区，无需软膜与胶深入接触，提高了软膜的使用寿命。

通过将高反射金属层覆盖住相邻两个梳齿所形成的凹槽的设计，避免光在到达胶之间从梳齿的侧壁射出的情况，将光完全局限于图形内，有效的提高图形分辨率。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

图1-图4为本发明的软膜的制备流程图。

具体实施方式

下面的实施例可以使本专业的技术人员更全面地理解本发明，但并不因此将本发明限制在所述的实施例范围之中。

如图4所示的一种软膜，包括一软膜主体10、梳齿组及高反射金属层11。

该软膜主体10呈长方体状，在软膜主体10的长轴方向的一侧设置有梳齿组。

梳齿组由若干并列等距分布的梳齿共同构成，在相邻的两个梳齿所形成的凹槽的内壁上还设置有高反射金属层11，且高反射金属层11覆盖住相邻两个梳齿所形成的凹槽。

上述的软膜通过下述方法进行制备：

第一步，硬膜制备：首先，根据所需图形采用Si或SiC基板制备出硬膜，如图1所示。

第二步，软膜制备：根据制备的硬膜利用树脂注塑成型制备出软膜半成品，如图2所示。

第三步，镀金属膜：采用电子束蒸镀或磁控溅射法在软膜半成品上镀一层厚度在150nm以上的高反射率金属膜，镀膜速率为5A/S，如图3所示。