[发明专利]喷嘴和积层形成装置有效
申请号: | 201580046031.3 | 申请日: | 2015-03-16 |
公开(公告)号: | CN107073648B | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 潘善盈;大野博司;中野秀士;小林晃太朗 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | B23K26/144 | 分类号: | B23K26/144 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴 形成 装置 | ||
根据本发明的一个实施例的喷嘴包括磁场生成部和主体。所述主体包括开口部,粉末从所述开口部被喷出。所述磁场生成部包括线圈,所述线圈被设置为在被供应以电流时生成磁场,所述磁场使得供应到所述主体的内部的所述粉末旋转。
技术领域
本文描述的实施例总体涉及一种喷嘴和积层形成装置。
背景技术
在相关领域中,以添加方式形成积层形成的对象的积层形成装置是已知的。积层形成装置通过从喷嘴供应材料粉末并且与激光同时地辐照粉末来熔融粉末形成材料层,并且该层被堆叠以形成积层形成的对象。
附图说明
图1是示意性地图示了根据第一实施例的积层形成装置的视图;
图2是示意性地图示了根据第一实施例的由积层形成进行成形处理的流程的范例的视图;
图3是图示第一实施例的喷嘴、光学装置和目标的剖视图;
图4是示意性地图示沿着图3中的F4-F4线的第一实施例的第一主体和供应部的剖视图;
图5是图示根据第二实施例的喷嘴、光学装置和目标的剖视图;并且
图6是图示根据第三实施例的喷嘴、光学装置和目标的剖视图。
具体实施方式
根据一个实施例,一种喷嘴包括磁场生成部和主体。所述磁场生成部被配置为生成磁场。所述主体被配置为使得通过磁场生成部在内部生成磁场,并且所述主体包括被配置为使得从其喷出在磁场中旋转的粉末的开口部。
在下文中,将参考图1至图4给出对第一实施例的描述。而且,在该说明中,基本上,垂直向上方向被定义为向上方向,并且垂直向下方向被定义为向下方向。另外,关于根据实施例的构成要素,要对所述要素进行说明时,可以同时使用多种表述。另外,不禁止使用未关于构成要素和其说明描述的其他表述。另外,不禁止使用在构成要素以及其说明的多个表述中未描述的其他表述。
图1是示意性地图示了根据第一实施例的积层形成装置1的视图。如在图1中所图示的,积层形成装置1包括处理罐11、平台12、移动装置13、喷嘴装置14、光学装置15、测量装置16和控制装置17。
在本说明书中,X轴、Y轴和Z轴如附图中所图示地被定义。X轴、Y轴和Z轴垂直于彼此。例如,Z轴位于沿着垂直方向。而且,可以以Z轴与垂直方向倾斜这样的方式来布置积层形成装置1。
例如,积层形成装置1向平台12上的目标110上堆叠从喷嘴装置14供应的材料121,以形成具有预定形状的积层形成的对象100,材料121的一个范例是粉末。
目标110是材料121由喷嘴装置14将材料供应到其的目标,并且包括底座110a和层110b。多个层110b被层压在底座110a的上面上。例如,材料121是粉末状的金属材料。而且,材料121不限于此,并且可以是诸如合成树脂和陶瓷的其他材料。积层形成装置1通过使用一种或多种材料121来制造积层形成的对象100。
在处理罐11中提供主室21和子室22。子室22被提供为邻近主控制室21。在主室21与子室22之间提供门23。当门23被打开时,主室21与子室22彼此连通。当门23被关闭时,主室21进入气密状态。
进气口21a和排气口21b被提供在主室21中。当供气装置(未图示)操作时,诸如氮和氩的惰性气体通过进气口21a被供应到主室21。当排气装置(未图示)操作时,主室21内的气体通过排气口21b从主室21排出。而且,积层形成装置1可以通过排气口21b排出主室21内的气体以便主室21进入真空状态。
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