[发明专利]喷嘴和积层形成装置有效

专利信息
申请号: 201580046031.3 申请日: 2015-03-16
公开(公告)号: CN107073648B 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 潘善盈;大野博司;中野秀士;小林晃太朗 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: B23K26/144 分类号: B23K26/144
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 喷嘴 形成 装置
【权利要求书】:

1.一种喷嘴,包括:

主体,其包括开口部,粉末从所述开口部被喷出;以及

磁场生成部,其包括线圈,所述线圈被设置为在被供应以电流时生成磁场,所述磁场使得带电且供应到所述主体的内部的所述粉末旋转且积聚。

2.根据权利要求1所述的喷嘴,还包括:

供应部,其被配置为向所述粉末施加关于所述磁场的中心轴的圆周方向上的速度以将带电的所述粉末供应到所述主体的内部。

3.根据权利要求2所述的喷嘴,

其中,所述线圈被配置为生成朝向所述开口部的端部增加的磁场,所述粉末从所述开口部的端部被喷出。

4.根据权利要求3所述的喷嘴,

其中,所述线圈包括叠加在彼此之上的多个线圈,并且叠加的所述线圈的数目朝向所述开口部的所述端部增加。

5.根据权利要求3所述的喷嘴,

其中,线圈的每长度匝数朝向所述开口部的所述端部增加。

6.根据权利要求1所述的喷嘴,

其中,所述主体被配置为从所述开口部发射能量射线,并且

所述线圈被配置为生成所述磁场,所述磁场使得所述粉末围绕所述能量射线旋转。

7.一种积层形成装置,包括:

喷嘴,其包括主体以及磁场生成部,所述主体包括开口部,粉末从所述开口部被喷出,并且所述磁场生成部包括线圈,所述线圈被设置为在被施加电流时生成磁场,所述磁场使得带电且供应到所述主体的内部的所述粉末旋转且积聚;

带电单元,其被配置为使所述粉末带电;

供应部,将通过所述带电单元而被带电的所述粉末供应至所述主体的内部;以及

光学装置,其被配置为对所述粉末进行熔融或烧结。

8.根据权利要求7所述的积层形成装置,

其中,所述主体被配置为从所述开口部发射能量射线,所述能量射线由所述光学装置生成,并且

所述线圈被配置为生成磁场,所述磁场使得所述粉末围绕所述能量射线旋转。

9.一种喷嘴,包括:

主体,其包括开口部,粉末从所述开口部被喷出;以及

磁场生成部,其被配置为生成磁场,所述磁场使得带电且供应到所述主体的内部的所述粉末旋转且积聚,其中,

所述磁场生成部被配置生成朝向所述开口部的端部增加的所述磁场,粉末从所述开口部的端部被喷出。

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