[实用新型]晶圆清洗装置有效
申请号: | 201420241909.1 | 申请日: | 2014-05-12 |
公开(公告)号: | CN203886856U | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | 唐强;李广宁 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | B08B3/08 | 分类号: | B08B3/08;H01L21/67 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 装置 | ||
1.一种晶圆清洗装置,其特征在于,包括:边缘清洗单元及嵌套于边缘清洗单元内部的中央清洗单元;
所述边缘清洗单元包括:清洗液储存单元及呈喇叭状分布的多个边缘清洗管;其中,所述多个边缘清洗管的输入端均与所述清洗液储存单元的输出端连接;所述多个边缘清洗管的输出端之间由金属丝连接,并且金属丝连接构成圆形,所述圆形的直径为0.7d~0.9d,d为晶圆的直径;所述边缘清洗管的数量大于等于六个。
2.如权利要求1所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述边缘清洗单元还包括第二输入管;所述第二输入管与所述清洗液储存单元的输入端连接。
3.如权利要求2所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述中央清洗单元包括:第一输入管及与所述第一输入管输出端连接的中央清洗管;其中所述第一输入管嵌套于所述第二输入管内,并贯穿所述清洗液储存单元。
4.如权利要求3所述的晶圆清洗装置,其特征在于,中央清洗管的数量为三个,其中,每相邻两个中央清洗管之间成120ɑ。
5.如权利要求3所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述中央清洗管长度均为1cm~3cm。
6.如权利要求3所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述中央清洗管输出端与所述边缘清洗管输出端之间的垂直距离为0.5cm~2cm。
7.如权利要求1-6中任一项所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述边缘清洗单元中流通的液体为硫酸和去离子水的混合液。
8.如权利要求1-6中任一项所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述中央清洗单元中流通的液体为去离子水。
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