[发明专利]一种气体样品刻度标准源及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410836232.0 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN104597481A 公开(公告)日: 2015-05-06
发明(设计)人: 王世联;李奇;常印忠;樊元庆;贾怀茂;刘蜀疆;赵允刚 申请(专利权)人: 北京放射性核素实验室
主分类号: G01T7/02 分类号: G01T7/02;G01T1/178
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 杨亚婷
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 气体 样品 刻度 标准 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种气体样品刻度标准源,包括盒体、上盖、标准溶液及刻度源基质,其特征在于:

所述盒体及上盖构成一个密封腔体,所述密封腔体的几何尺寸及材料与待测气体样品源盒相同,

所述标准溶液和刻度源基质位于盒体内;

所述刻度源基质为可发性聚苯乙烯颗粒。

2.根据权利要求1所述的气体样品刻度标准源,其特征在于:所述可发性聚苯乙烯颗粒的粒径为1~2mm;密度小于0.02g/cm3

3.根据权利要求1或2所述的气体样品刻度标准源,其特征在于:

所述上盖和盒体通过粘合或焊接成密闭容器。

4.根据权利要求1所述的气体样品刻度标准源,其特征在于:所述上盖和盒体材料为不锈钢、聚四氟乙烯、聚乙烯、尼龙、碳纤维、铝、铜或塑料闪烁体。

5.根据权利要求1所述的气体样品刻度标准源,其特征在于:所述标准源溶液均匀滴定在刻度源基质上。

6.根据权利要求1-5之一所述的气体样品刻度标准源的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:

1)在刻度源盒盒体底部均匀铺一层刻度源基质,均匀滴定标准溶液;

2)再铺一层刻度源基质,均匀滴定标准溶液,

3)重复步骤2,直至所需高度;

4)待溶液阴干后,将刻度源盒上盖1和刻度源盒盒体2进行粘合或焊接密封;

5)将制作好的刻度标准源放置在振荡器中震动30分钟以上,使刻度源基质分布均匀。

7.根据权利要求6所述的气体样品刻度标准源的制作方法,其特征在于:所述可发性聚苯乙烯颗粒的粒径为1~2mm;密度小于0.02g/cm3

8.根据权利要求6或7所述的气体样品刻度标准源的制作方法,其特征在于:所述滴定采用电子移液器。

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