[发明专利]一种气体样品刻度标准源及其制备方法在审
申请号: | 201410836232.0 | 申请日: | 2014-12-26 |
公开(公告)号: | CN104597481A | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 王世联;李奇;常印忠;樊元庆;贾怀茂;刘蜀疆;赵允刚 | 申请(专利权)人: | 北京放射性核素实验室 |
主分类号: | G01T7/02 | 分类号: | G01T7/02;G01T1/178 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 杨亚婷 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 气体 样品 刻度 标准 及其 制备 方法 | ||
1.一种气体样品刻度标准源,包括盒体、上盖、标准溶液及刻度源基质,其特征在于:
所述盒体及上盖构成一个密封腔体,所述密封腔体的几何尺寸及材料与待测气体样品源盒相同,
所述标准溶液和刻度源基质位于盒体内;
所述刻度源基质为可发性聚苯乙烯颗粒。
2.根据权利要求1所述的气体样品刻度标准源,其特征在于:所述可发性聚苯乙烯颗粒的粒径为1~2mm;密度小于0.02g/cm3。
3.根据权利要求1或2所述的气体样品刻度标准源,其特征在于:
所述上盖和盒体通过粘合或焊接成密闭容器。
4.根据权利要求1所述的气体样品刻度标准源,其特征在于:所述上盖和盒体材料为不锈钢、聚四氟乙烯、聚乙烯、尼龙、碳纤维、铝、铜或塑料闪烁体。
5.根据权利要求1所述的气体样品刻度标准源,其特征在于:所述标准源溶液均匀滴定在刻度源基质上。
6.根据权利要求1-5之一所述的气体样品刻度标准源的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)在刻度源盒盒体底部均匀铺一层刻度源基质,均匀滴定标准溶液;
2)再铺一层刻度源基质,均匀滴定标准溶液,
3)重复步骤2,直至所需高度;
4)待溶液阴干后,将刻度源盒上盖1和刻度源盒盒体2进行粘合或焊接密封;
5)将制作好的刻度标准源放置在振荡器中震动30分钟以上,使刻度源基质分布均匀。
7.根据权利要求6所述的气体样品刻度标准源的制作方法,其特征在于:所述可发性聚苯乙烯颗粒的粒径为1~2mm;密度小于0.02g/cm3。
8.根据权利要求6或7所述的气体样品刻度标准源的制作方法,其特征在于:所述滴定采用电子移液器。
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