[发明专利]一种显影液恒温保持管路系统

说明书

本发明属于半导体匀胶显影领域，具体地说是一种显影液恒温保持管路系统，保温水循环系统的出口通过进水管进入显影单元、连接至集液块，与显影液源相连的显影液管进入显影单元，依次连接集液块、水液分离式药液阀及分液块，集液块与水液分离式药液阀之间的显影液管以及分液块与水液分离式药液阀之间的显影液管外均设有保温水套管，保温水套管与显影液管之间流通有由保温水循环系统提供的保温水；经分液块流出的保温水进入喷嘴的一个腔室，并通过回水管与保温水循环系统相连通，经分液块流出的显影液进入喷嘴的另一个腔室，喷洒至晶圆的表面。本发明使显影液管进入显影单元后完全浸泡在保温水里，避免裸露在外，减少其他因素对显影液的影响。

技术领域

本发明属于半导体匀胶显影领域，具体地说是一种显影液恒温保持管路系统，用以集成电路制造单片湿法处理设备中显影液温度的控制。

背景技术

目前，半导体晶圆生产过程中，为了完成越来越苛刻的工艺要求，需要对设备的各个环节进行严格的控制，而显影液的温度控制又是重中之重。显影是匀胶显影设备中最重要一步，由于显影液对温度特别敏感，超出规定的范围对工艺就会造成极大影响，可能导致整个晶圆工艺要从新开始，严重影响产能，影响经济效益。而现在对显影液的保温只是局部或者是双层套管，使回水对保温水产生影响很难受控。

发明内容

针对上述问题，本发明的目的在于提供一种显影液恒温保持管路系统。通过该管路系统可以实现显影液温度的恒定并一直保持，在显影工艺时使显影液自始至终控制在设定的工艺温度内。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

本发明包括保温水循环系统及位于显影单元内的集液块、水液分离式药液阀和安装有分液块的喷嘴，其中保温水循环系统的出口通过进水管进入所述显影单元、连接至所述集液块，与显影液源相连的显影液管进入所述显影单元，依次连接集液块、水液分离式药液阀及分液块，所述集液块与水液分离式药液阀之间的显影液管以及所述分液块与水液分离式药液阀之间的显影液管外均设有保温水套管，所述保温水套管与显影液管之间流通有由保温水循环系统提供的保温水；经所述分液块流出的保温水进入所述喷嘴的一个腔室，并通过回水管与所述保温水循环系统的入口相连通，经所述分液块流出的显影液进入所述喷嘴的另一个腔室，喷洒至晶圆的表面。

其中：所述集液块上安装有检测进入显影单元的保温水温度的热敏电阻，该热敏电阻与所述保温水循环系统电连接；所述分液块内设有相互独立的第一腔室及第二腔室，所述显影液管及保温水套管分别与分液块相连，且所述显影液管与所述第一腔室连通、所述保温水套管与所述第二腔室连通；所述集液块内设有第三腔室，在该集液块上开有与所述第三腔室相连通的进水孔，所述显影液管由第三腔室穿出，所述进水孔通过所述进水管与保温水循环系统相连通，保温水由该进水孔流入，并经所述显影液管与所述第三腔室的内壁之间流入保温水套管；所述显影液管内的显影液通过水液分离式药液阀控制流量。

本发明的优点与积极效果为：

1.本发明通过集液块实现显影液和保温水的汇集，通过水液分离式药液阀控制显影液的流量大小，使显影液管进入显影单元后完全浸泡在保温水里，避免裸露在外，减少其他因素对显影液的影响。

2.本发明的集液块上设置了热敏电阻，实现了单元内管路系统和单元外控制系统相互关联，从而保证保温水的恒定。

3.本发明的的恒温水是由显影单元外的保温水循环系统提供，恒温水的温度可根据不同的工艺要求设定。并且可以根据温度变化自动调节到最初设定的值。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为本发明分液块的内部结构示意图；

图3为本发明集液块的内部结构示意图；