[发明专利]绝对水平基准精度测试系统及测试方法

权利要求书

1.一种绝对水平基准精度测试系统，其特征在于：所述绝对水平基准精度测试系统包括二维电子水平仪、平面反射镜、整平基座以及双轴自准直仪；所述二维电子水平仪、平面反射镜以及整平基座自上而下依次设置在一起；所述双轴自准直仪设置在平面反射镜的上方并与平面反射镜置于同一光路。

2.根据权利要求1所述的绝对水平基准精度测试系统，其特征在于：所述平面反射镜的面形精度RMS值不低于λ/20。

3.根据权利要求2所述的绝对水平基准精度测试系统，其特征在于：所述平面反射镜镀有高反射率膜。

4.根据权利要求3所述的绝对水平基准精度测试系统，其特征在于：所述平面反射镜是金属平面反射镜或玻璃平面反射镜。

5.根据权利要求4所述的绝对水平基准精度测试系统，其特征在于：所述整平基座是带有三个或四个脚螺旋调节机构的基座。

6.一种基于如权利要求5所述的绝对水平基准精度测试系统的测试方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：

1)安装二维电子水平仪、平面反射镜以及整平基座；

2)调节整平基座使平面反射镜的镜面绝对整平；

3)调节双轴自准直仪使其对平面反射镜完全自准；

4)由双轴自准直仪读取待测水平基准装置的正交两轴向的测试值X和Y，最终根据公式计算待测水平基准装置的绝对水平基准精度。

7.根据权利要求6所述的测试方法，其特征在于：所述步骤1)的具体实现方式是：

1.1)选择平稳隔振的地方安置整平基座；

1.2)在整平基座上方安放平面反射镜，平面反射镜的镜面法线竖直向上；

1.3)将二维电子水平仪安放在平面反射镜上，使二维电子水平仪的花岗岩底座与平面反射镜的镜面相接触。

8.根据权利要求7所述的测试方法，其特征在于：所述步骤2)的具体实现方式是：打开二维电子水平仪的电源，待示数稳定后，调节整平基座的脚螺旋，且同时观察二维电子水平仪的绝对倾斜量值变化，不断调节将平面反射镜的镜面绝对整平。

9.根据权利要求8所述的测试方法，其特征在于：所述步骤3)的具体实现方式是：取走二维电子水平仪，在平面反射镜的镜面上方架设双轴自准直仪，双轴自准直仪的测量头竖直向下正对平面反射镜的镜面；保持整平基座和平面反射镜的位置稳定不变，调节双轴自准直仪使其对平面反射镜完全自准，并将示数清零。

10.根据权利要求9所述的测试方法，其特征在于：所述步骤4)的具体实现方式是：

取走整平基座和平面反射镜，保持双轴自准直仪的位置稳定不变，将待测水平基准装置安放在双轴自准直仪的测量头下方的测试光路中；待待测水平基准装置的水银液面稳定半小时后，由双轴自准直仪读取正交两轴向的测试值X和Y，最终根据公式计算待测水平基准装置的绝对水平基准精度。