[发明专利]压模用铝母模及其制造方法、压模及其制造方法、物品的制造方法、和防反射物品

说明书

技术领域

本发明涉及压模用铝母模及其制造方法、压模及其制造方法、物品的制造方法、和防反射物品。

本申请主张2012年3月30日在日本提出申请的特愿2012-078812号的优先权，在此引用其全部内容。

背景技术

近年来，进行了通过设置具有将凹凸结构的周期控制在可见光的波长以下的微细凹凸结构的防反射结构，从而减少电视、手机等的液晶面的反射光的研究。

作为设置具有微细凹凸结构的防反射结构的方法之一，采用如下方法：对铝合金进行铸造和塑性加工等而得到的铝母模的表面实施阳极氧化处理来形成微细凹凸结构，将该凹凸部转印到由树脂等成形材料，从而制造防反射物品(转印物)。另外，作为通过阳极氧化处理形成的凹凸图案，报告有圆锥、四棱锥等锥形体。

对铝母模的表面实施阳极氧化处理，以该表面为铸模(压模)制造转印物时，由于压模表面直接反映在转印物上，因此其表面的品质是重要的。

作为对压模的表面品质产生影响的因素，可列举出铝母模中的“第2相颗粒”、“晶体粒度”、“晶体取向”、铝母模原材料的“镜面研磨性”。并且，认为第2相颗粒具有与其它项目(晶体粒度、晶体取向、镜面研磨性)相反的一面。

需要说明的是，“第2相颗粒”是指形成与铝母相不同的相的颗粒，例如可列举出铝合金中的铁(Fe)、硅(Si)系化合物等。

一般而言，第2相颗粒等异物存在于铝母模的表面时，阳极氧化处理时形成不连续的凸部、或第2相颗粒脱落形成凹状缺陷而在压模的表面产生缺陷。使用该压模进行转印时，压模的缺陷部分对应的转印部分形成不连续的凹凸，透射光散射、转印物的防反射性降低。

由此，第2相颗粒的存在对转印物的品质产生影响。尤其是铝母模、压模的表面上的第2相颗粒的圆当量直径(以下，称“当量直径”。)大于可见光的波长时，所得到的转印物的雾度(雾值)大幅上升。另外，即使是第2相颗粒的当量直径小于可见光的波长的情况下，若第2相颗粒大量存在，转印物的雾度也会上升。

因此，理想的是，可以形成压模的表面缺陷的铝母模中的第2相颗粒尽可能的少。为了减少第2相颗粒，使用作为第2相颗粒来源的添加元素、杂质少的高纯度的铝即可，例如提出有使用纯度99.99％的纯铝的压模(例如参照专利文献1)。

但是，高纯度的铝的晶粒在铸造工序、塑性加工工序、热处理(退火)工序中容易粗大化。肉眼明显可见的粗晶粒在氧化覆膜上也形成同样的晶界纹理，模压得到的转印物上也转印了该图案，转印物的外观受损。

所以，在即将铸造前的熔液中添加微细化剂(例如铝-钛-硼合金(Al-Ti-B系合金))从而可以使铸造组织微细，高纯度的铝的情况下却难以微细化而存在微细化剂的添加量增加的倾向。其结果，添加物引起第2相颗粒(例如二硼化钛(TiB₂))增加，有损压模的表面品质。

作为解决这些问题的铝母模，提出了如下的压模用铝母模：将铝熔液所包含的镁(Mg)的含量限制为0.5～3质量％、而且包含杂质、Mg以外的元素的含量限制为总计500ppm以下，从而具有微细且取向均一的晶粒、并且由于极力减少杂质含量而抑制了第2相颗粒的出现(析出)(例如参照专利文献2)。根据专利文献2，通过对该压模用铝母模实施阳极氧化处理，从而可以形成不定向的均一纹理的凹凸转印面。

现有专利文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-156695号公报

专利文献2：国际公开第2011/030850号

发明内容

发明要解决的问题

然而，如专利文献2所述，含有Mg的铝母模具有微细且不定向的晶粒，但仔细观察对该铝母模实施阳极氧化处理而制作的压模的表面结构转印得到的转印物时，判明例如图6所示地大量存在微小的凸状缺陷D。需要说明的是，对于转印物的凸状缺陷D有时根据其形状而称作糖果状缺陷。

转印物的凸状缺陷大多是小于可见光波长的缺陷，但如上述地大量存在时，在转印物表面引起漫反射而带来转印物的雾度的上升。另外，在转印到树脂等时，树脂埋入到作为转印物的凸状缺陷的反转结构的压模表面的凹状缺陷中，有时成为转印物粘附于压模而变得难以剥离、不能连续转印这种不良的原因。因此，需要尽可能减少转印物的凸状缺陷等的发生。