[实用新型]一种引线框架双面局部电镀设备有效

专利信息
申请号: 201320349904.6 申请日: 2013-06-18
公开(公告)号: CN203333784U 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 刘国强 申请(专利权)人: 中山品高电子材料有限公司
主分类号: C25D5/02 分类号: C25D5/02;C25D7/12
代理公司: 中山市科创专利代理有限公司 44211 代理人: 谢自安
地址: 528400 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 引线 框架 双面 局部 电镀 设备
【权利要求书】:

1.一种引线框架双面局部电镀设备,其特征在于:包括正面喷镀模具(1)和反面喷镀模具(2),所述的正面喷镀模具(1)的两侧分别设有将引线框架(3)导入所述正面喷镀模具(1)的第一导向轮(11)和将引线框架(3)导出所述正面喷镀模具(1)的第二导向轮(12),所述的反面喷镀模具(2)的一侧设有将所述的第二导向轮(12)导出的引线框架(3)沿行走方向反向导入所述的反面喷镀模具(2)的导向逆转轮(4),使得引线框架(3)的背面与所述的反面喷镀模具(2)相贴,所述的导向逆转轮(4)与所述的第二导向轮(12)之间、所述反面喷镀模具(2)的另一侧设有将引线框架(3)导出所述的反面喷镀模具(2)的第三导向轮(21),所述的反面喷镀模具(2)的外周环绕设有引导引线框架(3)的第四导向轮(22)、第五导向轮(23)和第六导向轮(24),使得所述的第三导向轮(21)导出的引线框架(3)再U形环绕所述的反面喷镀模具(2)后继续沿引线框架(3)原来的行走方向运动。

2.根据权利要求1所述的一种引线框架双面局部电镀设备,其特征在于所述的反面喷镀模具(2)位于所述的导向逆转轮(4)的进料侧。

3.根据权利要求2所述的一种引线框架双面局部电镀设备,其特征在于所述的导向逆转轮(4)的宽度大于引线框架(3)的宽度0.6~1mm。

4.根据权利要求2或3所述的一种引线框架双面局部电镀设备,其特征在于所述的正面喷镀模具(1)和所述的反面喷镀模具(2)的大小相同且中心在同一直线上。

5.根据权利要求4所述的一种引线框架双面局部电镀设备,其特征在于所述的第三导向轮(21)、第四导向轮(22)、第五导向轮(23)和第六导向轮(24)环绕在所述的反面喷镀模具(2)四周呈方形分布。

6.根据权利要求5所述的一种引线框架双面局部电镀设备,其特征在于所述的第一导向轮(11)、第二导向轮(12)、第三导向轮(21)、导向逆转轮(4)和第六导向轮(24)顺序地设在所述的正面喷镀模具(1)和所述的反面喷镀模具(2)连线的一侧,所述的第四导向轮(22)和所述的第五导向轮(23)均在所述的正面喷镀模具(1)和所述的反面喷镀模具(2)连线的另一侧。

7.根据权利要求6所述的一种引线框架双面局部电镀设备,其特征在于所述的正面喷镀模具(1)的下方两侧分别设有正面喷镀模具底座(13),所述的反面喷镀模具(2)的下方两侧分别设有反面喷镀模具底座(25)。

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