[发明专利]多晶硅还原酸洗系统

说明书

技术领域

    本发明涉及一种多晶硅还原酸洗系统，具体涉及一种用于多晶硅氢化过程中的多晶硅还原酸洗系统。

背景技术

   目前的多晶硅制造的还原过程中，需要利用酸液清洗硅块和硅芯，酸液供应装置为硅块酸洗机和硅芯酸洗机供应酸液，酸液供应装置、硅块酸洗机和硅芯酸洗机中都会不可避免的产生酸雾，由于酸雾污染环境，酸雾的逸出还对周边工作人员产生有害的影响，造成安全问题，一般还需要利用抽风机抽取酸液供应装置、硅块酸洗机和硅芯酸洗机的酸雾送入酸雾淋洗塔中进行中和排废。酸液供应装置、硅块酸洗机和硅芯酸洗机等一般是利用管道并联到抽风机上，但是酸液供应装置、硅块酸洗机和硅芯酸洗机的酸雾产生情况一般不同步，即在同一时段，有的酸雾多，有的酸雾少，抽风机按照一定功率工作时，往往难以同时满足酸液供应装置、硅块酸洗机等设备的工作状况，造成有的设备内有酸雾积存，损害设备；有的设备内风量浪费，造成无用电耗和机器损耗。　　

发明内容

　　针对上述所存在的问题，本发明的目的是提供一种更好调节通风量的多晶硅还原酸洗系统。

    为达到上述技术效果，本发明所采取的技术方案是：一种多晶硅还原酸洗系统，包括抽风机、硅块酸洗机、硅芯酸洗机和为硅块酸洗机与硅芯酸洗机供应酸液的酸液供应装置，硅块酸洗机、硅芯酸洗机与酸液供应装置通过管道并联至抽风机，该抽风机与酸雾淋洗塔相连并将硅块酸洗机、硅芯酸洗机与酸液供应装置中的酸雾抽出后导入到酸雾淋洗塔。酸液供应装置与抽风机之间的管道设置有第一风量调节阀，硅块酸洗机与抽风机的管道上设置有第二风量调节阀，硅芯酸洗机与抽风机的管道上设置有第三风量调节阀。

     本发明的多晶硅还原酸洗系统，抽风机和硅块酸洗机、硅芯酸洗机与酸液供应装置之间均单独设有对应的风量调节阀，可以分别控制各自产生酸雾的设备内的通风量，使各个产生酸雾的设备中的风量适当，既没有较多的风量浪费，又不会导致酸雾在设备内过多留存，以免影响设备运行。同时可以在整体上节约风量，降低电耗，延长抽风机的使用寿命。

附图说明

   图1是本发明多晶硅还原酸洗系统的原理示意图。

具体实施方式

    下面将结合附图对本发明作进一步说明。

   如图1所示，本发明多晶硅还原酸洗系统主要用于清洗硅块和硅芯，包括抽风机21、硅块酸洗机23、硅芯酸洗机25和酸液供应装置27，酸液供应装置27为硅块酸洗机23、硅芯酸洗机25供应酸液，硅块酸洗机23、硅芯酸洗机25和酸液供应装置27同时通过管道以并联的方式连接在抽风机21上，抽风机21工作时，可以将硅块酸洗机23、硅芯酸洗机25和酸液供应装置27中的酸雾抽取输送到酸雾淋洗塔29中进行中和排废。为了优化供风量，酸液供应装置27与抽风机21之间的管道设置有第一风量调节阀271，硅块酸洗机23与抽风机21的管道上设置有第二风量调节阀231，硅芯酸洗机25与抽风机21的管道上设置有第三风量调节阀251。在工作过程中，硅块酸洗机23、硅芯酸洗机25和酸液供应装置27的酸雾产生不同步时，根据酸雾产生情况，调节第一、第二和第三风量调节阀，使各个产生酸雾的设备中的风量适当，既没有较多的风量浪费，又不会导致酸雾在设备内过多留存，影响设备运行。同时可以在整体上节约风量，降低电耗，延长抽风机21的使用寿命。

   为了更好地利用原料，多晶硅还原酸洗系统还可以包括一个酸液收集槽31、一个泵33和一个纯水槽35，酸液收集槽31经过泵33连接硅块酸洗机23和硅芯酸洗机25，泵33用于抽取硅块酸洗机23和硅芯酸洗机25中清洗过硅块或硅芯后的酸液，并将酸液送到酸液收集槽31中存储，用于清洗还原炉的炉内件，如石墨件、瓷环、四氟套、大垫、视镜等，充分利用酸液。清洗完炉内件后，酸液收集槽内的酸液可以进行排废处理。清洗后的还原炉的炉内件可以放置在纯水槽35内，随后取出利用氮气吹干密封包装待用，完成清洗处理。这样，多晶硅还原酸洗系统的酸液清洗完硅芯和硅块后可以继续清洗炉内件，能够充分使用，节约成本。

   为进一步防止酸雾的逸出，上述酸液收集槽31可以通过管路与硅块酸洗机23、硅芯酸洗机25和酸液供应装置27一起并联到抽风机21，酸液收集槽31连接到抽风机21的管道上设置有第四风量调节阀311，调节酸液收集槽31内的风量，同样避免酸液收集槽31中酸雾存量及风量浪费。

   可以理解，抽风机21的主风道上可以设置有总风阀213，总风阀213可以调节主风道上的通风量，作为粗调节，每个可能产生酸雾的设备上的风量调节阀可以为对应的设备微调风量，使风量调节更为精确。