[发明专利]磁控溅射真空室均匀进气装置

说明书

技术领域

本实用装置涉及进气装置，具体是一种向磁控溅射真空室供气的进气装置。 

背景技术

磁控溅射法是在真空条件下，电离惰性气体，气体离子在电场的作用下，轰击金属靶材使金属原子沉积在玻璃表面上的一种工艺方法，当产品在进入真空室中时，需要对真空室进行真空→大气→真空的转换。现有的一种真空室进气装置的基本结构是：一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接。该进气装置存在的欠缺是：空气直接由排气管进入真空室，气流会急速冲入真空室内，对真空室内设备的冲击较大，会使设备产生较大的震动，影响设备使用寿命，严重时会造成设备变形、产品破损等危害。 

发明内容

本发明的目的是提供一种磁控溅射真空室均匀进气装置，由该进气装置进入到真空室内的空气的流速可得到较大程度的减缓。 

为实现上述目的，本发明采用以下方案：磁控溅射真空室均匀进气装置，一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接，排气管的另一端与一只层流管的入口端相接，层流管具有一只一端开口的外套管，在外套管内装有一只内套管，内套管与外套管间形成有封闭的环形空腔，内套管的管壁上开有一组第一排气孔，外套管的管壁上开有一组第二排气孔，外套管的开口端为层流管的入口端。 

由上述方案可见，由本发明提供的进气装置向磁控溅射真空室内供气时，由排气管排出的气流先进入内套管内，然后通过内套管上的第一排气孔进入到环形空腔中，再由外套管上的第二排气孔较均匀地进入到真空室内，这样进入到真空室内的气流的流速可得到较大程度的减缓、且不会紊乱，从而大大减轻了因气流冲击带来的设备及产品的震动，避免出现设备硬伤、产品破损的现象。

本发明结构简单、合理，它可使设备及产品得到较好的保护。 

附图说明

附图为本发明一实施例的结构示意图及使用状态示意图。 

具体实施方式

以下结合实施例及附图进一步说明本发明。 

参见附图 

本发明提供的磁控溅射真空室均匀进气装置具有一消音过滤器1，消音过滤器1的排气口与气动挡板阀2的进气口相接，气动挡板阀2的出气口与一排气管3的一端相接，排气管3的另一端与一只层流管5的入口端相接，层流管5具有一只一端开口的外套管5a，在外套管5a内装有一只内套管5c，内套管5c与外套管5a间形成有封闭的环形空腔，内套管5c的管壁上开有一组第一排气孔5d，外套管5a的管壁上开有一组第二排气孔5b，外套管5a的开口端为层流管的入口端。

本实施例中，内套管5c上的一组第一排气孔5d处在一条直线上，外套管5a上的一组第二排气孔5b处在一条直线上，且一组第一排气孔5d与一组第二排气孔5b相背离。 

由附图可见，本进气装置在安装使用时，层流管5设置在真空室7内，消音过滤器1、气动挡板阀2及排气管3设在真空室7外，排气管3固定在真空室的墙壁4的外侧上，墙壁4上开有通孔4a，排气管3与真空室墙壁4间保持密封，排气管3另一端与层流管5的入口端相接的方式为：层流管5的入口端连接一段支管6，支管6穿如墙壁4上的通孔4a中与排气管3接通。