[发明专利]高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法无效
申请号: | 201310272318.0 | 申请日: | 2013-07-01 |
公开(公告)号: | CN103337575A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 张化宇;汪桂根;崔林;韩杰才 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学深圳研究生院 |
主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20;H01L33/00 |
代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人: | 刘显扬;黄晓笛 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高效率 低成本 大面积 图形 蓝宝石 衬底 制备 方法 | ||
1.一种高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,包括如下几个步骤:
步骤A: 在光栅结构图形硬模板上旋涂甲苯稀释的PDMS;
步骤B: 在甲苯稀释的PDMS上涂覆PDMS预聚物,将80μm至120μm的PDMS板压在PDMS预聚物表面,接着进行加热固化;
步骤C: 脱模,获得PDMS软压印模板;
步骤D:在蓝宝石基片的一个面上磁控溅射金属铝膜,接着在金属铝膜上施涂紫外固化胶,烘干,然后采用PDMS软压印模板对紫外固化胶进行紫外纳米软压印;
步骤E: 脱模,获得紫外固化胶图形;
步骤F: 以金属铝膜上图形化紫外固化胶为掩膜,采用反应离子刻蚀金属铝膜和去胶,在蓝宝石基片上获得金属铝膜光栅结构的图形化金属铝膜;
步骤G:进行低温热处理,使图形化金属铝膜充分氧化成为图形化多晶Al2O3膜;
步骤H:将得到的图形化多晶Al2O3膜进行高温热处理,使图形化多晶Al2O3膜完全转化为图形化单晶Al2O3膜,即得到图形化蓝宝石衬底。
2..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述金属铝膜的厚度为150nm~200nm。
3..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述步骤A中的甲苯稀释的PDMS质量浓度为60%wt。
4..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述步骤B中PDMS预聚物为PDMS预聚物:固化剂=1:10配制。
5..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述步骤D中的压印模板选用PDMS软压印模板。
6..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述步骤D中的压印技术选用紫外纳米软压印技术。
7..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述步骤D中紫外固化胶采用AMONIL-MMS4紫外固化胶。
8..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述步骤D中紫外固化胶膜的厚度为150nm~250nm。
9..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述步骤G中低温热处理的温度为400℃~600℃。
10..如权利要求1所述的高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法,其特征在于,所述步骤H中高温热处理的温度为950℃~1250℃。
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