[发明专利]荧光检测方法

权利要求书

1.一种荧光检测方法，其特征在于，包含：

将荧光检测试剂加入样品中；

将样品盛装至一样品盘中，其中该样品盘包含至少一列背景样品孔及至少一列待测样品孔；

以一背景光源照射该样品盘；以及

取得该样品盘的一背景灰阶影像。

2.根据权利要求1所述的荧光检测方法，其特征在于，还包含：

均值滤波该背景灰阶影像；

二值化该背景灰阶影像；

根据二值化后的该背景灰阶影像，计算出该列背景样品孔的边缘位置；

根据该列背景样品孔的边缘位置，计算出该列待测样品孔的边缘位置；

取得位于该列背景样品孔内的灰阶像素数据，并将其平均，作为一背景信号临界值；以及

根据该列待测样品孔的边缘位置以及该背景信号临界值，对该列待测样品孔进行荧光信号读取作业。

3.根据权利要求2所述的荧光检测方法，其特征在于，对该列待测样品孔进行荧光信号读取作业的步骤包含：

以该背景光源照射该样品盘；

取得该样品盘的一待测灰阶影像；

均值滤波该待测灰阶影像；

取得位于该列待测样品孔内的灰阶像素数据；

逐个判断位于该列待测样品孔内的灰阶像素数据是否大于该背景信号临界值；以及

当位于该列待测样品孔内的灰阶像素数据大于该背景信号临界值时，判断为读出荧光信号。

4.根据权利要求2所述的荧光检测方法，其特征在于，取得该样品盘的该背景灰阶影像的步骤是以互补金氧式半导体或电荷耦合元件为之。

5.根据权利要求2所述的荧光检测方法，其特征在于，该列待测样品孔上覆盖有一滤镜。

6.根据权利要求2所述的荧光检测方法，其特征在于，该背景光源为发光二极管或激光。

7.根据权利要求1所述的荧光检测方法，其特征在于，还包含：

均值滤波该背景灰阶影像；

二值化该背景灰阶影像；

根据二值化后的该背景灰阶影像，计算出该列背景样品孔的边缘位置；

根据该列背景样品孔的边缘位置，计算出该列待测样品孔的边缘位置；

取得位于该列背景样品孔内的灰阶像素数据，并将其平均，作为一背景信号临界值；

根据该列待测样品孔的边缘位置以及该背景信号临界值，对该列待测样品孔进行荧光信号读取作业；

以该背景光源照射该样品盘；

以相异曝光的时间取得该样品盘的多个待测灰阶影像；

均值滤波所述多个待测灰阶影像；

取得位于该列待测样品孔内的灰阶像素数据；

逐个判断位于该列待测样品孔内的灰阶像素数据是否大于该背景信号临界值；以及

当位于该列待测样品孔内的灰阶像素数据大于该背景信号临界值时，判断为读出荧光信号。

8.根据权利要求7所述的荧光检测方法，其特征在于，取得该样品盘的该背景灰阶影像的步骤是以互补金氧式半导体或电荷耦合元件为之。

9.根据权利要求7所述的荧光检测方法，其特征在于，相异曝光的时间由一软件判断，随着荧光强度递增而递减。

10.根据权利要求7所述的荧光检测方法，其特征在于，该列待测样品孔上覆盖有一滤镜。

11.根据权利要求7所述的荧光检测方法，其特征在于，该背景光源为发光二极管或激光。

12.根据权利要求1所述的荧光检测方法，其特征在于，还包含：

一定位步骤；

均值滤波该背景灰阶影像；

二值化该背景灰阶影像；

根据二值化后的该背景灰阶影像，计算出该列背景样品孔的边缘位置；

根据该列背景样品孔的边缘位置，计算出该列待测样品孔的边缘位置；

取得位于该列背景样品孔内的灰阶像素数据，并将其平均，作为一背景信号临界值；以及

根据该列待测样品孔的边缘位置以及该背景信号临界值，对该列待测样品孔进行荧光信号读取作业。