[发明专利]等离子体显示器用玻璃基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及等离子体显示器用玻璃基板及其制造方法。

背景技术

等离子体显示面板(以下根据需要称为“PDP”)具有前表面玻璃基板和背面玻璃基板隔着低熔点封接玻璃贴合的结构。前表面玻璃基板的表面上形成有透明电极和总线电极，在其上形成有电介质层及保护膜。背面玻璃基板的表面上形成有寻址电极和电介质层，在其上形成有间隔壁。然后，分别以配置有各种电极的面为内侧，使前表面玻璃基板和背面玻璃基板对置，将电极等的位置对齐后，将前表面玻璃基板和背面玻璃基板气密封接。

近年来，PDP的大画面化和高清晰化的发展特别受到关注。伴随着PDP的大画面化，对于前表面玻璃基板和背面玻璃基板(以下有时也将前表面玻璃基板和/或背面玻璃基板称为“PDP用玻璃基板”)，要求轻量化、即薄板化。PDP用玻璃基板通常通过浮法制造(例如参照专利文献1)。人们在与制造上容易形成凹凸的锡面（日文：フロート面）相比没有凹凸的相反侧的面(顶面)上形成各种电极来使用。然而，如果为了轻量化而减小玻璃基板的板厚，则玻璃基板的顶面容易受到锡面所具有的制造上形成的微小的凹凸的影响。

通过浮法制造的PDP用玻璃基板中，在表面几乎没有凹凸的顶面上形成各种电极和电介质层，但为了应对高清晰化，顶面上的微小的凹凸的尺寸的允许范围变小。因此，现在的状况是：即使是在迄今为止的板厚的条件、例如板厚2.8mm的条件下就足以应对高清晰化的玻璃基板，在进一步薄板化、例如板厚为2mm以下的条件下也无法应对高清晰化。

虽然也尝试了通过对玻璃基板的表面进行研磨来兼顾实现薄板化和高清晰化，但工序数增加，生产性降低，而且研磨后会在玻璃基板表面残留异物，因而可能会导致品质的降低。

作为考虑到兼顾轻量化和高清晰化的PDP用玻璃基板，已知将前表面玻璃基板和背面玻璃基板的热膨胀系数之差规定得较小的技术，其目的主要是避免伴随着大画面化和轻量化而在玻璃基板的制造时发生的热变形或热收缩导致PDP的画面整体产生大的扭曲或翘曲。

然而，实现薄板化的板厚小的PDP用玻璃基板中，尚未知没有对高清晰的PDP的画质造成影响的浮现在玻璃基板表面的微小的凹凸、且没有因异物混入等而导致品质下降的PDP用玻璃基板。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2003-238174号公报

专利文献2：日本专利特开2007-294395号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明的目的是提供一种等离子体显示器用玻璃基板及其制造方法，该等离子体显示器用玻璃基板的板厚足够小，且使用该玻璃基板得到的等离子体显示面板具有能应对高清晰化的表面。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明的等离子体显示器用玻璃基板是板厚为2.0mm以下的等离子体显示器用玻璃基板，在至少一方的主面上，用原子力显微镜测得的最大表面粗糙度Rz的最大值为8nm以下，且不具有宽20mm以下、高1.5μm以上、长20mm以上的山脉状的凸部。

本发明的等离子体显示器用玻璃基板的制造方法是制造上述本发明的等离子体显示器用玻璃基板的方法，包括下述(1)～(4)的工序：

(1)将所述等离子体显示器用玻璃基板的玻璃原料熔化，制成熔融玻璃的工序；

(2)将所述熔融玻璃内存在的气泡除去的澄清工序；

(3)成形工序，该成形工序是带状玻璃成形工序，该成形工序中，将所述澄清工序后的熔融玻璃连续地供给至熔融金属的浴面，制成logη为3～4的带状玻璃，使该带状玻璃从所述浴面的上游侧移动至下游侧，使logη达到7～9后，将该带状玻璃从所述浴面提起，在所述浴面上的所述带状玻璃的logη为5～6的区域内一边对所述熔融金属实施脱气处理一边进行该成形工序；其中，η是玻璃粘度，单位是dPa·秒；

(4)将所述带状玻璃退火，制成玻璃板后，切割成规定的尺寸，得到等离子体显示器用玻璃基板的工序。

发明的效果

藉由本发明，可提供一种等离子体显示器用玻璃基板及其制造方法，该等离子体显示器用玻璃基板的板厚足够小，且使用该玻璃基板得到的等离子体显示面板具有能应对高清晰化的表面。

附图说明

图1是作为缺陷浮现在等离子体显示器用玻璃基板的表面的山脉状凸部的示意图和剖视图。

图2是示意地表示用于检查等离子体显示器用玻璃基板的表面形状的装置的图。