[发明专利]光敏共聚物，包含所述共聚物的光致抗蚀剂以及由其形成的制品

权利要求书

1.一种包含具有式(XX)的电子敏感的酸可脱保护单体和共聚单体的聚合产物的共聚物：

其中R^a是H，F，-CN，C_1-10烷基或C_1-10氟烷基；

R^x和R^y各自独立地是取代或未取代的C_1-10烷基或C_3-10环烷基；

R^z是取代或未取代的C_6-20含芳族基团或C_6-20含环脂族基团；

其中R^x和R^y一起任选地形成环；以及

R^x，R^y和R^z中的至少一个被卤代。

2.如权利要求1所述的共聚物，其特征在于，R^x，R^y和R^z中的至少一个被氟代。

3.如权利要求1所述的共聚物，其特征在于，R^z是取代或未取代的C_6-20含芳族基团。

4.如权利要求1所述的共聚物，其特征在于，所述电子敏感的酸可脱保护单体包括以下单体或其组合：

5.如权利要求1所述的共聚物，其特征在于，所述共聚单体包括以下单体中的至少一种：

具有式(V)的酸-可脱保护单体，式(VI)的含内酯单体，式(VII)的碱可溶性单体，式(VIII)的光致生酸单体，或包含至少一种上述单体的组合，

其中，

各R^a独立地是H，F，-CN，C_1-10烷基或C_1-10氟烷基，

各R^b独立地是C_1-20烷基、C_3-20环烷基、C_6-20芳基或C_7-20芳烷基，各R^b是独立的或者至少一个R^b与相邻的R^b键合形成环状结构，

L是单环、多环或稠合多环的C_4-20含内酯基团，

W是卤代或非卤代的、芳族或非芳族C_2-50含羟基有机基团，其pKa小于或等于12，

Q是含酯或不含酯的，氟代或非氟代的，并且是C_1-20亚烷基、C_3-20环亚烷基、C_6-20亚芳基或C_7-20亚芳烷基，

A是含酯或不含酯的，氟代或非氟代的，并且是C_1-20亚烷基、C_3-20环亚烷基、C_6-20亚芳基或C_7-20亚芳烷基，

Z^-是包括磺酸盐、磺酸酰胺阴离子或磺酸亚酰胺阴离子的阴离子部分，以及

G⁺是锍阳离子或碘鎓阳离子。

6.如权利要求5所述的共聚物，其特征在于，所述共聚单体包括式(VIII)的光致生酸单体。

7.一种包含具有式(I)的电子敏感的酸可脱保护单体和共聚单体的聚合物产物的共聚物：

其中R^a是H，F，-CN，C_1-10烷基或C_1-10氟烷基；

S¹是环状或非环状、芳族或非芳族C_3-20叔基团，

A¹是取代或未取代的，并且是氟代C_6-20含芳族基团、氟代C_6-20含环脂族基团或包括至少一种上述基团的组合。