[发明专利]涂布组合物及其制备方法、和由该涂布组合物形成的膜层

说明书

技术领域

本发明是有关于一种涂布组合物，且特别是有关于一种用来形成具有耐候性、高可挠曲性、及高机械强度膜层的涂布组合物，及其制备方法、和由该涂布组合物形成的膜层。

背景技术

有机聚合物材料由于具有轻、薄、及可挠曲的性质，被广泛的使用在涂布材料及光电产品中。然而，有机材料中的化学键由于原子间的键结能低，造成耐候性不足。虽然无机材料具有高的耐候性，可抵抗太阳光中的紫外线破坏，但无机材料成膜性与可挠曲性不佳，作为涂层会有易于剥落的问题。

因此，业界需要一种高成膜性的涂布组合物，以形成具有高耐候性、及高可挠曲性的膜层。

发明内容

本发明的目的在于提供一种既具有有机材料的高成膜性及高可挠曲性，也具有无机材料的高耐候性的涂布组合物。

本发明提出一种涂布组合物，包含一由一(a)聚硅倍半氧烷与一(b)具有公式(I)结构的化合物经化学反应所得的产物；

其中R为独立的羟基、或C_1-8烷氧基；R¹为C_3-12环氧基(epoxy group)、C_3-12丙烯酸酯基(acrylate group)、C_3-12烷基丙烯酸基(alkylacryloxy group)、C_3-12氨烷基(aminoalkyl group)、C_3-12异氰酸酯烷基(isocyanate-alkyl group)、C_3-12烷羧酸基(alkylcarboxylic acid group)、C_3-12卤烷基(alkyl halide group)、C_3-12硫醇烷基(mercaptoalkyl group)、C_3-12烷基(alkyl group)、或C_3-12烯基(alkenyl group)；

以及，R²为羟基、C_1-8烷基、或C_1-8烷氧基。

根据本发明另一实施例，本发明亦提供上述种涂布组合物的制备方法，包含将该(a)聚硅倍半氧烷与该(b)具有公式(I)结构的化合物进行化学反应，得到一产物。

根据本发明其它实施例，本发明亦提供一种膜层，其中该膜层是由上述的涂布组合物经一涂布制程后所形成。

本发明的优点在于：本发明的涂布组合物包含经成份(a)及(b)化学反应所得的产物，由于该产物为具有Si-O键结为主体的高分子，因此该组合物所形成的膜层具有高耐候度及机械强度；此外该产物亦具有高碳数的特定官能基，使得该组合物具有较高的成膜性，且所形成的膜层具有可挠曲能力。

为让本发明的上述和其它目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举出较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下：

附图说明

图1是实施例1所得的涂布组合物包含的产物的傅利叶转换红外光(FT-IR)分析图谱。

具体实施方式

本发明是揭露一种涂布组合物、该组合物所形成的膜层、及该涂布组合物的制备方法。

根据本发明一实施例，该涂布组合物包含：一由一(a)聚硅倍半氧烷与一(b)具有公式(I)结构的化合物经化学反应所得的产物