[发明专利]一种塑封IC开封方法无效
申请号: | 201210580087.5 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN103065936A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 冯海科 | 申请(专利权)人: | 西安芯派电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 西安西交通盛知识产权代理有限责任公司 61217 | 代理人: | 张震国 |
地址: | 710075 陕西省*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 塑封 ic 开封 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种IC的湿法开封方法,特别涉及一种塑封IC开封方法。
背景技术
随着电子产品的飞速发展与进步,塑封IC产品的可靠性问题已经成为电子元器件供应商关心的主要问题之一。塑封IC刚开始时,可靠性是很差的。当然,IC美国是老大,日本的IC更差。所以日本的电子产品大多要靠进口美国的IC。一开始,美国对塑封IC的可靠性差,认为是理所当然的。他们称要用高可靠性的IC,就要用陶瓷封装的IC,因为那是通过严格的测试的。但是日本的失效分析专家做了实实在在的测试、失效分析、DPA(破坏性物理实验,以良品开封为核心),把失效的问题找出来了,通过不断的改善,使日本的塑封IC可靠性也大大提高。现在国内的一些电子元器件供应商为了提高塑封IC产品的可靠性,需要对塑封IC产品进行开封,找出失效点,进而提出改进措施。目前国内主要以购买美国和日本的自动开封机为主,进行塑封IC产品的开封,但是自动开封机具有以下几个缺陷:
1.自动开封机成本较高,进口价格一般在3万美金左右,而且后续不断的向设备供应商购买一些专利酸液,对于国内的中小型企业是一笔沉重的负担。
2.自动开封机开封需时较长,例如针对于一颗DIP8的塑封IC,需要时间大约为45分钟左右,如果需要进行多颗塑封IC进行分析时,需时较长,严重影响效率。
结合以上分析,需要一种适合中国中小企业的一种塑封IC的开封方法。目前个别企业都有自己相应的塑封IC开封方案,但技术均不成熟,存在较多缺陷:其一,开封速度慢。其二,样品芯片表面残留胶多不干净,不利于失效点观察。除此之外还存在诸多问题,有待改进。
发明内容
本发明要解决的问题是:提供一种塑封IC开封方法,操作简单、开封时间短,成本较低。
本发明采用的技术方案是:
一种塑封开封方法,首先按照体积比为3:1将硝酸和硫酸配成混合酸液,加热至50~80℃后,将混合酸液滴注在芯片上方,使酸液与塑封料反应,直至芯片全部裸露出来,最后在裸露的芯片上方滴注硫酸以清洗芯片表面,最后将芯片清洗干净即可。
作为本发明的优选实施例,酸液与塑封料反应直至芯片全部裸露出来的具体方法为:将酸液滴注到塑封IC表面,使酸液充分与塑封料反应,反应结束后,用无水乙醇清洗,之后重复在塑封IC表面滴注酸液、清洗,直至芯片完全裸露出来。
作为本发明的优选实施例,所述塑封IC的表面设置有凹槽,所述酸液滴注在凹槽内。
作为本发明的优选实施例,硝酸和硫酸均为分析纯级。
作为本发明的优选实施例,滴注到塑封IC表面的酸液温度为60℃。
作为本发明的优选实施例,最后将芯片清洗干净的方法为:先用超声波清洗,再用水清洗,最后用无水乙醇清洗。
本发明的优点:本发明方法开封时间短的原因为:一、硝酸和硫酸形成混酸进行腐蚀;二、芯片表面开有凹槽;三、对酸液进行加热,而不是对样品进行加热,减小对样品的影响。
具体实施方式
1.原材料准备:需要准备的原材料有:分析纯级浓硫酸,分析纯级浓硝酸,无水乙醇,滴管一只,烧杯若干。
2.腐蚀酸液配置:将分析纯级浓硝酸和分析纯级浓硫酸按照3:1的体积比进行配制,配制酸液时一次不要配制太多。
3.加热腐蚀酸液:将配置好的腐蚀酸液加热到50~80℃之间后,稳定温度使酸液始终保持在50~80℃,建议温度为60℃.可以将温度计插入酸液中监控酸液温度。
4.样品准备:清理样品表面的异物,使酸液可以直接与塑封料接触。最好在芯片上方位置制作出一个凹处,方便酸液停留腐蚀,这样可以加快开封速度。
5.样品腐蚀:将加热好的酸液用滴管滴注在芯片上方位置,使酸液与塑封料反应,然后将样品放入盛有无水乙醇的烧杯中清洗,清洗后继续滴注,不断重复以上操作,直到芯片全部裸露出来。
6.芯片表面清理:将分析纯级浓硫酸滴注在裸露出的芯片表面,停滞5秒后将样品放入盛有无水乙醇的烧杯中清洗,反复操作3次。
7.样品清洗:用水将样品清洗3次,防止酸液残留对人员造成伤害。最终将样品放入无水乙醇中10秒后拿出即可。如果有超声波清洗机,可以在样品放入无水乙醇前进行超声波清洗,效果会更好。用无水乙醇进行清洗能够防止芯片表面有水痕遗留,影响观察。
最后说明的是,以上实例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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