[发明专利]反应腔室烘烤的实时控制方法及装置有效
| 申请号： | 201210495300.2 | 申请日： | 2012-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN103853055A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 边国栋 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G05B19/04 | 分类号： | G05B19/04 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应 烘烤 实时 控制 方法 装置 | ||
1.一种反应腔室烘烤的实时控制方法，用于获得所述反应腔室的真空环境；其特征在于，包括以下步骤：
检测反应腔室的初始压力；
开始烘烤加温；
实时获取所述反应腔室的压力，从而得到所述反应腔室的压力变化趋势；
根据所述反应腔室的压力变化趋势判断所述反应腔室所处的压力状态；
当所述压力状态达到预定状态时结束烘烤。
2.如权利要求1所述的反应腔室烘烤的实时控制方法，其特征在于，所述预定状态为所述反应腔室获得真空环境的状态。
3.如权利要求1所述的反应腔室烘烤的实时控制方法，其特征在于，所述预定状态为所述反应腔室的压力经历了下降趋势后一直保持不变的状态。
4.如权利要求1所述的反应腔室烘烤的实时控制方法，其特征在于，所述压力状态包括第一压力状态至第四压力状态。
5.如权利要求4所述的反应腔室烘烤的实时控制方法，其特征在于，其中，所述第一压力状态中所述腔室的压力成上升状态，所述第二压力状态中所述腔室的压力为稳定状态，所述第三压力状态中所述腔室的压力成下降状态，所述第四压力状态中所述腔室的压力为稳定状态，所述预定状态为所述第四压力状态。
6.如权利要求5所述的反应腔室烘烤的实时控制方法，其特征在于，其中，所述第四压力状态的压力值小于所述第二压力状态的压力值。
7.一种反应腔室烘烤的实时控制装置，用于获得所述反应腔室的真空环境；其特征在于，包括：
检测模块，用于实时检测反应腔室中的压力；
计算模块，用于计算相邻两次压力之差，从而获得所述反应腔室的压力变化趋势；
判断模块，用于根据所述压力变化趋势判断所述反应腔室所处的压力状态；以及
控制模块，用于当所述压力状态达到预定状态时结束烘烤。
8.如权利要求7所述的反应腔室烘烤的实时控制装置，其特征在于，所述预定状态为所述反应腔室获得真空环境的状态。
9.如权利要求7所述的反应腔室烘烤的实时控制装置，其特征在于，所述预定状态为所述反应腔室的压力经历了下降趋势后一直保持不变的状态。
10.如权利要求7所述的反应腔室烘烤的实时控制装置，其特征在于，所述压力状态包括第一压力状态至第四压力状态。
11.如权利要求10所述的反应腔室烘烤的实时控制装置，其特征在于，其中，所述第一压力状态中所述腔室的压力成上升状态，所述第二压力状态中所述腔室的压力为稳定状态，所述第三压力状态中所述腔室的压力成下降状态，所述第四压力状态中所述腔室的压力为稳定状态，所述预定状态为所述第四压力状态。
12.如权利要求11所述的反应腔室烘烤的实时控制装置，其特征在于，其中，所述第四压力状态的压力值小于所述第二压力状态的压力值。
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