[发明专利]一种触摸屏双面ITO刻蚀方法无效
| 申请号： | 201210363580.1 | 申请日： | 2012-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN102915165A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 余光明;张瑞恩 | 申请（专利权）人： | 深圳市雅视科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 触摸屏 双面 ito 刻蚀 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种触摸屏双面ITO刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：
在透明玻璃基板G的正、反双面分别镀ITO层；
对正、反双面的ITO层进行蚀刻前的保护处理；
对保护处理后的正、反双面的ITO层进行蚀刻，并且蚀刻中反面ITO层在下层，正面ITO层在上层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述蚀刻前的保护处理包括对正面ITO层进行耐酸处理和烤箱烘干，然后对反面ITO层进行耐酸处理和烤箱烘干。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，经过蚀刻获得的正面ITO层的方阻率为180-300欧姆，反面ITO层的方阻率为60-120欧姆。
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