[发明专利]一种3D显示设备的对准方法有效
申请号: | 201210363572.7 | 申请日: | 2012-09-26 |
公开(公告)号: | CN102854629A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 黄秋蓉;洪孟逸 | 申请(专利权)人: | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/26 | 分类号: | G02B27/26;G02B5/30;H04N13/04;G02F1/1335 |
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地址: | 210033 江苏省南京市仙林大道科*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 设备 对准 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种3D显示设备的对准方法,具体涉及一种3D位相差膜与液晶显示面板的对准方法。
背景技术
不闪薄膜式3D显示设备的结构如下图所示,液晶显示面板10逐行地交替显示左图像(L)和右图像(R),偏光膜34粘附在液晶显示面板10的上玻璃基板与3D位相差膜12之间。3D位相差膜上的图案设计与正常显示面板的画素大小相当,故当正常液晶面板的线偏振光通过不同的位相差膜,使得光变成左旋及右旋光,而进入人眼前再通过一副带有圆偏光的偏光膜的偏振眼镜13,在偏振眼镜13的左眼玻璃上,粘附有可透过左圆偏振光(或右圆偏振光)的偏光膜,而在偏振眼镜13的右眼玻璃上,粘附有可透过右圆偏振光(或左圆偏振光)的偏光膜,使得左右眼的资讯被分开,故人眼可感受到3D影像。目前3D显示设备量产最重要的问题为位相差膜与显示面板的对位。
图1为Master Image Inc.影像公司提出一种关于对准位相差膜12与显示面板10的方法,利用与显示面板10和位相差膜12隔开预定距离的两个影像撷取装置(CAM1和CAM2),撷取显示面10上显示的3D影像;对于3D影像的左影像和右影像检查分开情形,重复在显示面板10和位相差膜片12之间调准,直到调准满足预定要求。调准过程,需驱动面板显示左右眼调准图片。但是,需驱动系统及讯号产生器,设备成本高;同时借由影像撷取装置调准,很难建立精确量化的对准级别。此外,对准过程要花费大量的时间,从而生产率降低。
发明内容
发明目的:为了解决上述现有技术中的3D位相差膜与显示面板组立时调准时,调准过程所需的驱动系统及讯号产生器的设备成本高;以及借由影像调准很難量化调准等级以及对准时间过长的问题。
技术方案:为了上述的发明目的,本发明提供一种3D显示设备的对准方法,包括:显示面板,显示左眼图像和右眼图像,并在其外围处具有多个显示面板对准标记;3D位相差膜,具有与所述显示面板对准标记一一对应的对准标记;影像撷取装置,捕获所述显示面板对准标记和所述3D位相差膜的对准标记的图像;以及第二位相差膜,第二位相差膜与3D位相差膜的对准标记的相位差为λ/2,λ是波长;
其中,进行对准时,所述影像撷取装置通过第二位相差膜,对所述显示面板对准标记和所述3D位相差膜的对准标记的图像进行获取。
其中,3D相位差膜的对准标记具有λ/4或3λ/4的相位且是透明的。
其中,第二位相差膜具有3λ/4或λ/4的相位且是透明的。
进一步,所述对准标记在所述的显示面板的下玻璃基板上的像素阵列的外围形成,或在所述的显示面板的上玻璃基板上的CF阵列的外围形成。
其中,所述对准标记在所述的显示面板的下玻璃基板上的像素阵列的外围形成,对准标记的形成材料与显示面板TFT阵列的相同金属形成。
其中,所述对准标记在所述的显示面板的上玻璃基板上的CF阵列的外围形成,对准标记的形成材料与CF阵列的相同材料形成。
本发明还提供了另一种技术方案为:一种3D显示设备的对准方法,包括:显示面板,显示左眼图像和右眼图像,并在其外围处具有多个显示面板对准标记;3D位相差膜,包括:上微位相差膜、下位相差膜、和位于上微位相差膜和下位相差膜的偏光膜;其中,下位相差膜具有与所述显示面板对准标记一一对应的对准标记;影像撷取装置,捕获所述显示面板对准标记和所述3D位相差膜的对准标记的图像;
其中,进行对准时,所述影像撷取装置对所述显示面板对准标记和所述3D位相差膜的对准标记的图像进行获取。
进一步,所述下位相差膜的对准标记具有0°相位且是透明的,其他部分的下位差膜具有λ/2相位且是透明的。
进一步,所述上微位相差膜与下位相差膜的对准标记的对应位置具有0°相位且是透明的,其他部分的上微位相差膜具有λ/4或3λ/4的相位且是透明的,
进一步,所述偏光膜具有透过垂直线偏振光的光偏振轴。
其中,所述对准标记在所述的显示面板的下玻璃基板上的像素阵列的外围形成,或在所述的显示面板的上玻璃基板上的CF阵列的外围形成。
进一步,所述对准标记在所述的显示面板的下玻璃基板上的像素阵列的外围形成,对准标记的形成材料与显示面板TFT阵列的相同金属形成。
进一步,所述对准标记在所述的显示面板的上玻璃基板上的CF阵列的外围形成,对准标记的形成材料与CF阵列的相同材料形成。
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