[发明专利]一种基于稀疏孔径拼接的平面光学元件检测方法

权利要求书

1.一种基于稀疏孔径拼接的平面光学元件检测方法，其特征在于采用平面光学元件检测装置进行检测，所述检测装置包括二维平移台、干涉仪和标准平面透镜，所述标准平面透镜固定于干涉仪出瞳端，所述二维平移台上放置有平面光学元件，所述干涉仪的出瞳正对平面光学元件，使平面光学元件平行于标准平面透镜，以便测量干涉图像，具体步骤如下：

(1)将所述平面光学元件固定在二维平移台上，干涉仪对准所述平面光学元件的位置；

(2)调节二维平移台到达指定目标分布区域，使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分，干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算，得到该子孔径面型信息；

(3)在平面光学元件边缘找出距离几何中心点最远点，记该最远点与几何中心点的连接线段为L；

(4)移动二维平移台至新位置，使干涉仪出瞳中心对准线段L，并使出瞳对准的区域与步骤(2)所述测量区域有部分重叠，对该部分进行采集计算，得到该子孔径面型信息；

(5)重复步骤(4)，直到完成全部子孔径的测量，即可实现所述平面光学元件的稀疏子孔径测量；

其中：所述部分重叠区域的面积，由平面光学元件轮廓、尺寸与干涉仪出瞳尺寸决定。

2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于所述二维平移台采用XZ方向平移台。

3.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于所述干涉仪采用菲索型干涉仪。

4.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于步骤(2)中移动二维平移台到达指定目标分布区域，利用小口径干涉仪对所述平面光学元件的指定目标分布区域，即子孔径区域进行逐个检测。

5.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于子孔径的分布方式采用X型分布。

6.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于所述平面光学元件为矩形，记两条对角线分别为L₁与L₂；或所述平面光学元件为圆形，任选一条直径为L₁，记与L₁相垂直的直径为L₂，在L₁与L₂交点，即几何中心处定位一个子孔径，其余子孔径中心分别对准L₁与L₂中心，向边缘延伸，直至子孔径检测超出所述平面光学元件范围，其中子孔径间的重叠面积为单一子孔径面积的15%-30%。