[发明专利]供气装置及应用该装置的化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种供气装置，其特征在于，包括：

多个反应物管路，分别承载多个反应物；以及

多个温控管路，该些温控管路与该些反应物管路接触，以控制该些反应物的温度。

2.根据权利要求1所述的供气装置，其特征在于，每一该些温控管路前段与后段具有不同管径。

3.根据权利要求1所述的供气装置，其特征在于，每一该些温控管路上还包括至少一温度传感器。

4.根据权利要求1所述的供气装置，其特征在于，每一该些反应物管路上还包括至少一温度传感器。

5.根据权利要求1所述的供气装置，其特征在于，每一该些温控管路分别位于多个区域，根据不同区域状况，每一该些温控管路对应调整内部一流体的一流量速度或一流体温度。

6.根据权利要求1所述的供气装置，其特征在于，该些温控管路对应具有多个输入口，该些输入口连接到一共通输入口，该共通输入口以一流量控制器控制一流体的输入。

7.根据权利要求1所述的供气装置，其特征在于，该些温控管路靠近对应该些输入口的管线分布比该些温控管路远离对应该些输入口的管线分布分散。

8.一种化学气相沉积装置，其特征在于，包括：

一载盘，承载至少一基板；以及

一供气装置，该载盘与该供气装置之间形成一反应空间，该供气装置提供多个反应物到该反应空间进行一反应后，产生至少一生成物到该至少一基板上，该供气装置包括：

多个反应物管路，分别承载该些反应物；及

多个温控管路，该些温控管路与该些反应物管路接触，以控制该些反应物的温度。

9.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，每一该些温控管路前段与后段具有不同管径。

10.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，还包括：

一加热器，提供该反应空间所进行该反应的温度，该载盘位于该加热器与该供气装置之间。

11.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，还包括：

一盖体，位于该供气装置上方，该些反应物由该盖体外部通过该盖体送到该些反应物管路。

12.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，每一该些温控管路上还包括至少一温度传感器。

13.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，每一该些反应物管路上还包括至少一温度传感器。

14.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，每一该些温控管路分别位于多个区域，根据不同区域状况，每一该些温控管路对应调整内部一流体的一流量速度或一流体温度。

15.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，该些温控管路对应具有多个输入口，该些输入口连接到一共通输入口，该共通输入口以一流量控制器控制一流体的输入。

16.根据权利要求8所述的化学气相沉积装置，其特征在于，该些温控管路靠近对应该些输入口的管线分布比该些温控管路远离对应该些输入口的管线分布分散。