[发明专利]用于模具再生的片

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于模具再生的片，所述片用于对所述模具的表面进行清洁。

背景技术

在通过转移成型利用树脂对半导体器件进行封装的工艺中，通常连续进行使用模具的树脂成型。随着这种树脂成型重复数(次数)的增多，诸如从树脂渗出的成分、毛刺和尘埃的污染物在模具表面上、特别是在型腔表面上累积。这种污染物会劣化将成型产物从模具中取出的脱模性，并在成型产物上形成粗糙表面。因此，在预定的成型重复数(次数)的间隔期对模具的表面(型腔表面)进行清洁。

为了以上述方式进行清洁，提出了一种使用形成为片的模具清洁材料的方法(参见例如专利文献1)。该方法包括：将所述上模具与所述下模具结合、其中将模具清洁材料设置在上模具与下模具之间，从而将所述模具清洁材料填充到型腔中；在使得可以将污染物附着到模具清洁材料上的条件下实施加热成型；以及剥离所述模具清洁材料以将所述污染物与所述模具清洁材料一起从模具表面(型腔表面)上除去。

另外，本发明的申请人提出了一种用于模具再生的片，所述片具有提高的清洁性能(参见例如专利文献2和3)。用于模具再生的这种片由纸片或布片形成，其中在所述纸片或布片的至少一个表面上设置模具清洁材料使得以具有排气用空隙的预定图案突出。通过使用该用于模具再生的片，能够容易地将型腔中的空气从排气用空隙中排出。由此，空气不会残留在型腔中且模具清洁材料能够填充型腔的全部部分。结果，能够对型腔的全部部分进行清洁，由此提高清洁性能。

专利文献1：日本特开2004-130819号公报

专利文献2：日本特开2007-196586号公报

专利文献3：日本特开2008-132759号公报

发明内容

然而，即使当使用具有提高的清洁性能的用于模具再生的片时，仍存在一些不能将污染物充分除去的情况。因此，本发明的发明人对这种问题的原因进行了研究并发现，用于模具清洁材料的组合物的混合状态不均匀，从而使得模具清洁材料在型腔中的填充性劣化。

鉴于上述问题而完成了本发明，本发明的目的是提供一种用于模具再生的片，所述片具有高清洁性能并使得可识别模具清洁材料用组合物的混合状态。

为了实现上述目的，本发明涉及如下项(1)～(11)。

(1)一种用于模具再生的片，包含：

纸片或布片；以及

模具清洁材料，其包含未硫化橡胶基组合物或热固性树脂基组合物并形成在所述纸片或所述布片的至少一个表面上，使得以具有排气用空隙的预定图案突出，

其中在位于所述排气用空隙部分处的所述纸片或所述布片的表面部分上形成了包含所述组合物的薄膜，使得由所述薄膜的形成状态可识别形成所述图案的所述组合物的混合状态。

(2)如(1)所述的用于模具再生的片，其中所述薄膜具有500μm以下的厚度。

(3)如(1)或(2)所述的用于模具再生的片，其中所述图案具有非平坦状的顶部。

(4)如(3)所述的用于模具再生的片，其中所述非平坦状的顶部由具有0.2～3.0mm范围内的曲率半径的凸起部形成。

(5)如(1)～(4)中任一项所述的用于模具再生的片，其中所述图案由多个带或多个斑点形成。

(6)如(5)所述的用于模具再生的片，其中所述带或斑点具有各自在1～5mm范围内的宽度和厚度，并且相邻的带或斑点之间的距离设定在1～5mm的范围内。

(7)如(5)所述的用于模具再生的片，其中相邻的带或斑点之间的距离设定为所述带或斑点的宽度的0.5～2.0倍。

(8)如(5)所述的用于模具再生的片，其中所述带或斑点的宽度设定为所述带或斑点的厚度的0.8～1.2倍。

(9)如(1)～(8)中任一项所述的用于模具再生的片，其中所述布片是无纺布。

(10)如(9)所述的用于模具再生的片，其中所述无纺布是纺粘的无纺布。

(11)如(1)～(10)中任一项所述的用于模具再生的片，其中所述布片经历了压花处理。

在如本发明的申请人提出的、模具清洁材料以具有排气用空隙的预定图案突出的用于模具再生的片中，本发明的发明人通过利用该用于模具再生的片的高清洁性能、为了可识别所述模具清洁材料的混合状态而重复进行研究。结果，本发明人发现，当在位于排气用空隙部分处的纸片或布片的表面的一部分上形成包含模具清洁材料的薄膜时，可以根据薄膜的形成状态来识别模具清洁材料的混合状态。本发明以该发现为基础。