[发明专利]气体回收系统及气体还原装置

权利要求书

1.一种气体回收系统，其特征在于，包括：

至少一气体供给系统，其中包含：

一供给源，提供至少一气体；及

一气体供给单元，与该供给源连接；

至少一气体处理系统，与该气体供给系统连接，其中包括：

一气体反应器，与该气体供给单元连接；及

一气体还原装置，与该气体反应器连接；

一气体分离系统，与该气体处理系统连接，其中包括：

一第一排气单元，与该气体还原装置连接；

一纯化单元，与该第一排气单元连接；

一第二排气单元，与该纯化单元连接；及

一加热蒸发单元，与该纯化单元及该气体供给单元连接。

2.根据权利要求1所述的气体回收系统，其特征在于，该气体供给系统进一步包含至少一质量流量控制器。

3.根据权利要求1所述的气体回收系统，其特征在于，该气体处理系统进一步包含一除害装置，与该第一排气单元及该第二排气单元连接。

4.根据权利要求1所述的气体回收系统，其特征在于，该气体处理系统进一步包含一第一储存槽，该第一储存槽与该气体反应器及该气体还原装置连接。

5.根据权利要求4所述的气体回收系统，其特征在于，该气体分离系统进一步包含一第二储存槽，该第二储存槽是与该纯化单元及该加热蒸发单元连接。

6.根据权利要求4所述的气体回收系统，其特征在于，该第一储存槽内部存放一气体。

7.根据权利要求5所述的气体回收系统，其特征在于，该第二储存槽内部存放一液体。

8.一种气体还原装置，包括一气体还原单元及一气体导入管，该气体导入管内流通一第一气体，且该气体还原单元连接该气体导入管，其中该气体还原单元的特征在于：

该气体还原单元包括：

一导管，连接该气体导入管；

一还原气体源，与该导管连接，并提供一第二气体流通至该气体导入管内；及

一微波发射装置，发射一微波，并将该微波射入至该导管内的该第二气体。

9.根据权利要求8所述的气体还原装置，其特征在于，该微波发射装置进一步包含一发射管，且该气体还原单元的导管垂直贯穿该发射管。

10.根据权利要求9所述的气体还原装置，其特征在于，该发射管的外壁面进一步配置一第一磁场线圈。

11.根据权利要求8所述的气体还原装置，其特征在于，该导管的材料为一金属材料。

12.根据权利要求8所述的气体还原装置，其特征在于，该导管内进一步配置一介电层材料。

13.根据权利要求8所述的气体还原装置，其特征在于，该导管与该气体导入管间进一步配置一腔体。

14.根据权利要求13所述的气体还原装置，其特征在于，该腔体的外壁面进一步配置一第二磁场线圈。