[发明专利]PCB干膜显影槽清洗剂及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于对PCB干膜显影槽进行清洗的清洗剂和清洗方法，以及该清洗剂的制备方法。 

背景技术

目前，PCB作为电子器件器件的基板，其质量直接决定着整个电路的性能。而在PCB的制造过程中，前道的干膜制程尤为重要，在干膜制程中需要对干膜显影槽进行清洗，常规的清洁剂，如中国专利ZL201110080387.2公布的“一种碱性清槽剂”利用碱性溶液对槽壁上的污垢进行清洗；但是在实际使用中发现，这类碱性清洗剂，不但在清洗时需要进行加温处理，而且清洗时间较长、清洗效果不够好。 

发明内容

本发明的目的在于克服上述不足，提供一种清洗温度较低、清洗时间短且清洗效果好的PCB干膜显影槽清洗剂及其制备方法。 

本发明的目的是这样实现的：一种PCB干膜显影槽清洗剂，所述清洗剂由以下重量百分比的溶剂A和溶剂B组成，其中，溶剂A的组成为： 

磷酸：15~20%，

乙酸：4~10%，

余量为水；

溶剂B的组成，以溶剂A为基础量：

乳化剂：3~6%，

增溶剂：0.5~1%。

表面活性剂：1~3%。 

本发明PCB干膜显影槽清洗剂，所述乳化剂为OP系列乳化剂中的至少一种，所述增溶剂为乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的至少一种，所述表面活性剂为水溶性聚醚。 

本发明PCB干膜显影槽清洗剂的制备方法，所述方法包含有以下步骤： 

步骤一、制备溶剂A，将按上述百分比称量好的磷酸和乙酸依次倒入水中，并搅拌混合均匀；

步骤二、制备溶剂B，按制备好的溶剂A的重量，以及上述百分比称量好乳化剂和增溶剂，并将乳化剂,增溶剂和表面活性剂混合搅拌；

步骤三、将步骤一和步骤二得到的溶剂A和溶剂B相混合，混合后在常温下搅拌均匀，使其全部溶解，得到外观为无色均匀透明或略带浅黄色的溶液，即完成清洗剂的制备。

本发明PCB干膜显影槽清洗剂的清洗方法，所述清洗方法的步骤为： 

步骤一、稀释：将清洗剂与水混合,清洗剂按重量计，其百分比为10~20%；

步骤二、清洗：清洗时，各项参数为：

清洗温度25~30℃,

清洗时间1.5~2h；

步骤三、水洗：用纯水清洗0.5~1H即可。

与现有技术相比，本发明的有益效果是： 

一、能够清洗PCB干膜显影槽内之干膜残留物以及钙镁离子结晶物，对槽体以及设备无腐蚀,可代替目前酸碱洗方式；

二、清洗时间较目前酸碱洗方式时间缩短近1倍，缩短时间约3~4H；

三、清洗时温度为25~30℃，较目前酸碱洗清洗温度降低15~20℃，大大降低了电能消耗；

四、该清洗剂无毒,低腐蚀性，安全可靠，不燃不爆，短时间接触对人体不产生腐蚀，不破坏臭氧层,不会引起温室效应；使用、运输、储存非常方便。

具体实施方式

本发明涉及的一种PCB干膜显影槽清洗剂，所述清洗剂由以下重量百分比的溶剂A和溶剂B组成，其中，溶剂A的组成为： 

磷酸：15~20%，

乙酸：4~10%，

余量为水；

溶剂B的组成，以溶剂A为基础量：

乳化剂（OP系列乳化剂中的至少一种）：3~6%，

增溶剂（乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的至少一种）：0.5~1%，

表面活性剂（水溶性聚醚）：1~3%。

其中，磷酸和乙酸主要是为去除显影槽壁上钙镁结晶物； 

乳化剂选择OP系列主要是为了乳化膨胀干膜残渣残留物中的树酯成分，从而协同磷酸和乙酸去除掉干膜残渣中的钙镁离子结晶物；

选用OP乳化剂的原因在于：OP乳化剂具有较强的耐酸性，且为水溶性乳化剂，易溶于水，因而能够顺利的将树酯乳化膨胀；同时，选用水溶性乳化剂可以提高药水的均一性,对清洗效果有增强作用；

增溶剂:选择乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的一种或一种以上,用于去除干膜参渣残中的有机残留物；

选用乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚中的原因在于：乙二醇单丁醚或乙二醇乙醚均可溶于水，且对干膜残渣中的有机残留物具有一定的溶解性；

表面活性剂选择（水溶性聚醚）主要是为了降低药液表面张力以及清洗作用。