[发明专利]一种真空镀膜机用基片翻转装置有效

专利信息
申请号: 201210120266.0 申请日: 2012-04-23
公开(公告)号: CN102644058A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 陈艳;闫海;陈巍;路文一 申请(专利权)人: 北京遥测技术研究所
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 范晓毅
地址: 100076 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空镀膜 机用基片 翻转 装置
【权利要求书】:

1.一种真空镀膜机用基片翻转装置,其特征在于:包括基片工架(2)、角度止挡块(3)、指针(4)、拨叉(5)、窗口压盖(6)、波纹管(8)、波纹管接口(9)和拨叉杆(10),其中基片工架(2)两端的轴(12、13)分别穿过镀膜机转盘(1)上的两个支架(11、14)固定在镀膜机转盘(1)上,角度止挡块(3)穿过基片工架(2)一端的轴(12)固定在其中一个支架(14)上,指针(4)安装在基片工架(2)一端的轴(12)上,拨叉(5)安装在拨叉杆(10)的末端,拨叉(5)上开设两对容纳指针(4)的凹槽,选择其中一对凹槽实现基片工架(2)中基片与镀膜机中蒸发源之间角度的更改,选择另外一对凹槽实现基片工架(2)中基片镀膜晶面的翻转,窗口压盖(6)安装在镀膜机腔室门上,波纹管(8)一端焊接在窗口压盖(6)上,另一端与拨叉杆(10)通过波纹管接口(9)实现动密封装配。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用基片翻转装置,其特征在于:所述窗口压盖(6)上设置有窗口玻璃(7),用于观察拨叉(5)对基片工架(2)的操作情况。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用基片翻转装置,其特征在于:所述角度止挡块(3)上对称设置有两个挡块(15),其中挡块(15)的边缘与角度止挡块(3)上X轴的夹角为30-60°。

4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用基片翻转装置,其特征在于:所述拨叉(5)上开设的两对凹槽分别为一对U型槽与一对L型槽,其中指针(4)插入一对U型槽中实现基片与镀膜机中蒸发源之间角度的更改,指针(4)插入一对L型槽中实现基片镀膜晶面的翻转。

5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用基片翻转装置,其特征在于:所述基片工架(2)为框架结构,轴(12、13)对称设置在框架结构两端,通过在框架中设置不同数量的隔板(16),以实现多个基片的同时镀膜。

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