[发明专利]使用背光照明照射干涉式调制器的系统及方法无效

专利信息
申请号: 201210080001.2 申请日: 2005-09-12
公开(公告)号: CN102608755A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 克拉伦斯·徐;董明孝 申请(专利权)人: 高通MEMS科技公司
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;G02F1/21;B81C1/00;G09G3/34
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王允方
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 使用 背光 照明 照射 干涉 调制器 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种空间光调制器,其包括:

一光调制阵列,其包含复数个光调制元件,所述复数个光调制元件中每一光调制元件均具有第一及第二光学表面之间的光学谐振空腔;

位于所述光调制阵列中的光学孔径区域;及

至少一个反射元件,其配置成接收穿过所述光学孔径区域的光并将所述所接收的光的至少一部分反射至至少一个所述光学谐振空腔,所述至少一个反射元件具有一倾斜表面。

2.如权利要求1所述的装置,其中所述至少一个光学孔径区域位于所述光调制阵列中的一实质上居中的位置处。

3.如权利要求1所述的装置,其进一步包含一与所述至少一个反射元件对准的掩膜,以至少部分地遮掩所述至少一个反射元件的一视线。

4.如权利要求3所述的装置,其中所述掩膜包含一校准器的至少一部分。

5.如权利要求4所述的装置,其中所述校准器的所述部分包含一个或多个部分反射性、部分透射性的材料层及一个或多个间隔层。

6.如权利要求1所述的装置,其中所述至少一个反射元件包含至少一成形器件及一位于所述成形器件上的反射材料。

7.如权利要求1所述的装置,其中所述至少一个反射元件包含互连的部分,以形成一靠近复数个光调制元件延伸的连续的整体结构。

8.如权利要求1所述的装置,其中所述复数个光调制元件包含一金属层,且其中所述金属层具有复数个光学透射性的孔径。

9.如权利要求1所述的装置,其中所述光调制元件中的至少某些元件彼此分离,所述光学孔径区域位于被分离的光调制元件之间。

10.如权利要求1所述的装置,其中所述至少一个反射元件包含一悬浮在一基本透明的材料中的实质上呈颗粒状的反射材料。

11.如权利要求1所述的装置,其进一步包括:

一显示器;及

与所述显示器电相通的处理器,所述处理器经配置以处理图像数据。

12.如权利要求11所述的装置,其进一步包括:

一驱动电路,其经配置以将至少一信号发送至所述显示器。

13.如权利要求12所述的装置,其进一步包括:

一控制器,其经配置以将所述图像数据的至少一部分发送至所述驱动电路。

14.如权利要求1-13中的任一项所述的装置,其中所述倾斜表面是弯曲的。

15.如权利要求14所述的装置,其中所述至少一个反射元件具有一实质上凸出的几何形状。

16.如权利要求14所述的显示装置,其中所述至少一个反射元件具有一实质上凹入的几何形状。

17.如权利要求1-13中的任一项所述的显示装置,其中所述至少一个反射元件具有相对于衬底倾斜的平坦或平面部分。

18.一种空间光调制器,其包括:

一光调制阵列,其包含复数个光调制元件,所述复数个光调制元件中每一光调制元件均具有第一光学表面,第二光学表面和所述第一及第二光学表面之间的光学谐振空腔;

使光穿过所述光调制阵列的光穿过装置;及

光反射装置,其反射通过所述光穿过装置穿过的光的至少一部分至至少一个所述光学谐振空腔,其中所述至少一个光反射装置具有一倾斜表面。

19.如权利要求18所述的装置,其中所述光穿过装置包括光学孔径区域,或者所述光反射装置包括反射元件。

20.如权利要求18或19所述的装置,其中所述倾斜表面是弯曲的。

21.如权利要求20所述的装置,其中所述至少一个反射元件具有一实质上凸出的几何形状。

22.如权利要求20所述的显示装置,其中所述至少一个反射元件具有一实质上凹入的几何形状。

23.如权利要求18或19所述的显示装置,其中所述至少一个反射元件具有相对于衬底倾斜的平坦或平面部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通MEMS科技公司,未经高通MEMS科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210080001.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top