[发明专利]调色剂、显影剂和制造调色剂的方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于电子照相的调色剂和显影剂。本发明还涉及制造调色剂的方法。

背景技术

典型的电子照相方法包括：在包括光电导物质的感光体上形成静电潜像的静电潜像形成过程；用调色剂将该静电潜像显影为调色剂图像的显影过程；将调色剂图像转印到转印材料例如纸上的转印过程；通过施加热、压力、和/或溶剂蒸气将调色剂图像定影在转印材料上的定影过程；以及除去残留在感光体上的残余调色剂颗粒的清洁过程。所述静电潜像形成过程进一步包括在形成静电潜像之前带电器使感光体(例如，有机光电导体(OPC))的表面均匀带电的带电过程。

具体而言，感光体典型地通过电晕带电器带电。电晕放电是由空气在非均匀电场中的局部绝缘击穿的发生而引起的连续放电现象。典型的电晕带电器具有直径非常小的金属丝在铝屏蔽罩中张紧的配置，所述铝屏蔽罩的一部分被除去使得电晕离子从其排出。随着向金属丝供以不断增大的电压，在金属丝周围局部形成强电场，并且空气的绝缘击穿局部发生，导致电晕放电。

电晕带电器通常产生使得到的图像品质降低的放电产物。具体而言，当感光体在电晕带电器的长期放电后放置时，在电晕带电器正下方的感光体上的一部分处，得到的图像密度可能是不均匀的。这是因为放电产物在图像形成发生时积聚在电晕带电器的内壁上，且它们在图像形成不发生时逐渐污染感光体，结果，在图像承载部件上的电晕带电器正下方的部分与图像承载部件上的其它部分之间发生表面电位差。

为了有效地除去积聚在感光体上的放电产物，提出了涉及将研磨剂细颗粒加至调色剂表面的途径。然而，当研磨剂粗颗粒过量存在时，感光体可能过度磨损或刮伤，并且可能产生有缺陷的图像。

当研磨剂细颗粒的含量或粒度太小时，放电产物不能充分地从感光体除去，或者感光体的表面不能充分地恢复。

日本专利申请公开No.2007-156099提出了用于覆盖调色剂表面的细颗粒。这样的细颗粒具有几纳米至几十纳米的平均初级粒径。疏水化的二氧化硅颗粒和疏水化的氧化钛颗粒对于所述细颗粒而言是优选的。作为另一实例，日本专利申请公开No.2007-248911提出了用于覆盖调色剂表面的有机细颗粒。

发明内容

本发明的示例性方面鉴于上述情况提出，并且提供长时间防止图像劣化的新调色剂和制造这样的调色剂的方法。

根据一个实施方案，调色剂包括母体颗粒和覆盖所述母体颗粒表面的外添加剂。所述母体颗粒包括粘结剂树脂和脱模剂。所述外添加剂包括数均粒径为160nm以下的羟基磷灰石二氧化硅复合多孔颗粒。

根据另一实施方案，制造调色剂的方法包括：将调色剂组分溶解或分散在有机溶剂中以制备调色剂组分液体，所述调色剂组分包括粘结剂树脂或其前体和脱模剂；将所述调色剂组分液体分散在水性介质中以制备乳液；从所述乳液除去所述有机溶剂以制备母体颗粒；以及用外添加剂覆盖所述母体颗粒的表面，该外添加剂包括数均粒径为160nm以下的羟基磷灰石二氧化硅复合多孔颗粒。

附图说明

通过在结合附图考虑时参考以下详细描述，本发明及其许多附带优点将变得更好理解，从而将容易获得更完整的领会，其中：

图1示出了根据一个实施方案的处理盒。

具体实施方式

根据一个实施方案的调色剂包括母体颗粒和覆盖所述母体颗粒表面的外添加剂。所述母体颗粒包括粘结剂树脂和脱模剂。所述外添加剂包括数均粒径为160nm以下的羟基磷灰石二氧化硅复合多孔颗粒。羟基磷灰石二氧化硅复合多孔颗粒有效地吸附或除去积聚在感光体上的放电产物而不过度地磨损感光体。因此，感光体的表面可长时间保持可靠的带电性。羟基磷灰石二氧化硅复合多孔颗粒可通过，例如，使硅酸钙与磷酸反应以将钙组分和二氧化硅组分分别转化为结晶的羟基磷灰石和多孔二氧化硅来制备。

多孔材料中的孔(空隙部分)表现出疏水性。因此，羟基磷灰石二氧化硅复合多孔颗粒视作具有疏水位点，且表现出比均质二氧化硅颗粒更大的疏水性。由于固有的疏水性，羟基磷灰石二氧化硅复合多孔颗粒即使在用于电子照相调色剂的外添加剂时也不需要进行表面处理。