[发明专利]反射式光栅光阀及其加工方法

权利要求书

1.一种反射式光栅光阀，它主要由硅基底(1)、二氧化硅层(2)和可移动光栅条(3)组成，其特征在于所述的硅基底(1)上设有二氧化硅层(2)，在二氧化硅层(2)上设有多个可移动光栅条(3)，所述的可移动光栅条(3)间相互平行且等间隔布置，可移动光栅条(3)呈中间悬空的桥梁状，其两端分别固定于二氧化硅层(2)上。

2.根据权利要求1所述的反射式光栅光阀，其特征在于所述的可移动光栅条(3)由氮化硅梁(4)和金属反射层(5)构成，氮化硅梁(4)采用低应力氮化硅材料制成，其上设有既作为反射层以增大可移动光栅条的反射度、同时也作为其上电极的金属反射层(5)。

3.根据权利要求2所述的反射式光栅光阀，其特征在于所述氮化硅梁(4)的厚度为100-200nm，宽度为25-100μm，长度为150-300μm；氮化硅梁与二氧化硅层之间的中间悬空间距为0.5-1μm；所述金属反射层(5)的材料选用金属铝或金属银构成，其厚度为50-100nm，宽度为25-100μm，长度为150-300μm；相邻两个可移动光栅条(3)之间的距离为0.5-1μm。

4.根据权利要求1所述的反射式光栅光阀，其特征在于所述的硅基底(1)的厚度为200-350μm；所述二氧化硅层2的厚度为0.6-0.8μm。

5.一种如权利要求1或2或3或4所述的反射式光栅光阀的加工方法，其特征在于所述的加工方法包括以下步骤：

1)、在硅基底1上生长二氧化硅层(2)，在二氧化硅层(2)上生长硅牺牲层(9)，在硅牺牲层(9)上生长氮化硅层(8)；

2)、用离子蚀刻法对氮化硅层(8)进行离子蚀刻，留下氮化硅梁部分；

3)、用化学腐蚀法对牺牲层(9)进行腐蚀，掏空牺牲层(9)，得到中间悬空、两端固定在二氧化硅层上的氮化硅梁(4)；

4)、在氮化硅梁(4)的表面蒸镀一层金属反射层(5)。