[发明专利]膏涂敷装置以及膏涂敷方法有效

专利信息
申请号: 201210058701.1 申请日: 2012-03-07
公开(公告)号: CN102671822A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 中岛昌宏 申请(专利权)人: 芝浦机械电子株式会社
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 膏涂敷 装置 以及 方法
【说明书】:

技术领域

本发明的实施方式涉及对涂敷对象物涂敷膏的膏涂敷装置以及膏涂敷方法。

背景技术

膏涂敷装置被用于制造液晶显示面板等各种装置。该膏涂敷装置具备针对涂敷对象物涂敷膏的涂敷头,一边使该涂敷头移动、一边向涂敷对象物的被涂敷面涂敷膏,在涂敷对象物上形成规定的膏图案。例如,在液晶显示面板的制造中,作为膏(paste),将具有密封性以及粘接性的密封剂在基板等涂敷对象物的被涂敷面涂敷成矩形框状。

在这样的膏涂敷装置中,可求出以线状的图案对涂敷对象物的被涂敷面进行涂敷的膏的截面积(例如参照专利文献1)。在该测定中,可利用激光位移计测定膏的涂敷高度。激光位移计是利用了三角测量法的测量器,作为该激光位移计,还兼作对喷嘴的前端与基板的上表面之间的距离进行测量的测量器使用。

专利文献1:日本特开平7-275770号公报

但是,上述的激光位移计相对涂敷头以规定的配置方向被固定。而且,被涂敷成线状的膏的剖面形状为半椭圆,其表面弯曲。因此,在测定膏的涂敷高度时,有时由于激光位移计的配置方向与膏的延伸方向的关系而无法高精度测定膏的涂敷高度。该情况下,难以得到准确的膏的涂敷高度,会导致膏未被以所希望的涂敷量涂敷的不合格产品被判定为合格产品而在下一工序的制造中使用。结果,导致涂敷制品的品质降低。

发明内容

本发明鉴于上述情况而提出,其目的在于,提供能够提高膏的涂敷高度的测定精度、使涂敷制品的品质提高的膏涂敷装置以及膏涂敷方法。

本实施方式涉及的膏涂敷装置具备:多个涂敷头,分别具有朝向涂敷对象物的被涂敷面喷出膏的喷嘴;多个激光位移计,与多个涂敷头分别一体设置,能够根据激光的投光及受光测定被涂敷面的位移,并且激光的投光路与受光路不同;移动驱动部,使涂敷对象物与多个涂敷头在沿着被涂敷面的方向以及与被涂敷面交叉的方向上相对移动;和控制部,控制涂敷头以及移动驱动部,以使涂敷对象物与涂敷头在沿着被涂敷面的方向上相对移动,利用从喷嘴喷出的膏对被涂敷面描绘具有交叉位置关系的二直线的形状的涂敷图案,并且控制移动驱动部,以便基于与涂敷头对应的激光位移计的测定值,将该涂敷头的喷嘴的前端与被涂敷面的分离距离保持为设定值,多个激光位移计中的至少一个被配置成,光路面沿着涂敷图案中的二直线中的一方直线,上述光路面包括投光路以及受光路,多个激光位移计中的至少另一个被配置成,光路面沿着二直线中的另一方直线。

本实施方式涉及的膏涂敷装置具备:涂敷头,具有朝向涂敷对象物的被涂敷面喷出膏的喷嘴;激光位移计,与涂敷头一体设置,能够根据激光的投光及受光测定被涂敷面的位移,并且,激光的投光路与受光路不同;移动驱动部,使涂敷对象物与涂敷头在沿着被涂敷面的方向以及与被涂敷面交叉的方向上相对移动;旋转驱动部,使激光位移计在沿着被涂敷面的方向上旋转;和控制部,控制涂敷头以及移动驱动部,以使涂敷对象物与涂敷头在沿着被涂敷面的方向相对移动,利用从喷嘴喷出的膏对被涂敷面描绘具有交叉位置关系的二直线的形状的涂敷图案,并且,控制移动驱动部,以便基于激光位移计的测定值,将喷嘴的前端与被涂敷面的分离距离保持为设定值,控制部在测定被涂敷面上所描绘的膏的涂敷高度时控制旋转驱动部以及移动驱动部,以便相对于涂敷图案的二直线的任意一个,都使激光位移计的包括投光路以及受光路的光路面沿着该涂敷图案中的被涂敷成直线状的膏的延伸方向,并使该状态的激光位移计在与被涂敷成直线状的膏的延伸方向交叉的方向上移动。

本实施方式涉及的膏涂敷方法使涂敷对象物与涂敷头在沿着涂敷对象物的被涂敷面的方向上相对移动,利用从涂敷头的喷嘴喷出的膏对被涂敷面描绘具有交叉位置关系的二直线的形状的涂敷图案,并且,在描绘时,基于与涂敷头一体设置的激光位移计的测定值,将喷嘴的前端与被涂敷面的分离距离保持为设定值,上述激光位移计能够根据激光的投光及受光来测定被涂敷面的位移,并且,上述激光位移计的激光的投光路与受光路不同,其中,在测定被涂敷面上所描绘的膏的涂敷高度时,针对涂敷图案的二直线中的任意一个,都使激光位移计的包括投光路以及受光路的光路面沿着该涂敷图案中的被涂敷成直线状的膏的延伸方向,并使该状态的激光位移计在与被涂敷成直线状的膏的延伸方向交叉的方向上移动,来测定膏的涂敷高度。

附图说明

图1是表示第1实施方式涉及的膏涂敷装置的概略结构的主视图。

图2是表示图1所示的膏涂敷装置的概略结构的俯视图。

图3是用于说明由图1以及图2所示的膏涂敷装置所具备的激光位移计进行的膏的涂敷高度的测定方法的说明图。

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