[发明专利]Li2In2SiS6化合物、Li2In2SiS6非线性光学晶体及制法和用途有效
申请号: | 201210048486.7 | 申请日: | 2012-02-27 |
公开(公告)号: | CN103290480A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 姚吉勇;尹文龙;冯凯;郝文钰;傅佩珍;吴以成 | 申请(专利权)人: | 中国科学院理化技术研究所 |
主分类号: | C30B29/46 | 分类号: | C30B29/46;C04B35/547;C04B11/00;G02F1/355 |
代理公司: | 北京法思腾知识产权代理有限公司 11318 | 代理人: | 杨小蓉;杨青 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | li sub in sis 化合物 非线性 光学 晶体 制法 用途 | ||
技术领域
本发明涉及一种Li2In2SiS6化合物、Li2In2SiS6的非线性光学晶体(Li2In2SiS6单晶)及该Li2In2SiS6单晶的制备方法和用Li2In2SiS6单晶制作的非线性光学器件的用途。
背景技术
具有非线性光学效应的晶体称为非线性光学晶体。这里非线性光学效应是指倍频、和频、差频、参量放大等效应。只有不具有对称中心的晶体才可能有非线性光学效应。利用晶体的非线性光学效应,可以制成二次谐波发生器,上、下频率转换器,光参量振荡器等非线性光学器件。激光器产生的激光可通过非线性光学器件进行频率转换,从而获得更多有用波长的激光,使激光器得到更广泛的应用。根据材料应用波段的不同,可以分为紫外光区、可见和近红外光区、以及中红外光区非线性光学材料三大类。可见光区和紫外光区的非线性光学晶体材料已经能满足实际应用的要求;如在二倍频(532nm)晶体中实用的主要有KTP(KTiOPO4)、BBO(β-BaB2O4)、LBO(LiB3O5)晶体;在三倍频(355nm)晶体中实用的有BBO、LBO、CBO(CsB3O5)可供选择。而红外波段的非线性晶体发展比较慢;红外光区的材料大多是ABC2型的黄铜矿结构半导体材料,如AgGaQ2(Q=S,Se,Te),红外非线性晶体的光损伤阈值太低和晶体生长困难,直接影响了实际使用。中红外波段非线性光学晶体在光电子领域有着重要的应用,例如它可以通过光参量振荡或光参量放大等手段将近红外波段的激光(如1.064μm)延伸到中红外区;也可以对中红外光区的重要激光(如CO2激光,10.6μm)进行倍频,这对于获得波长连续可调的激光具有重要意义。因此寻找优良性能的新型红外非线性光学晶体材料已成为当前非线性光学材料研究领域的难点和前沿方向之一。
发明内容
本发明目的在于提供一种化学式为Li2In2SiS6的化合物。
本发明另一目的在于提供一种Li2In2SiS6非线性光学晶体。
本发明再一目的在于提供Li2In2SiS6非线性光学晶体的制备方法。
本发明还有一个目的在于提供Li2In2SiS6非线性光学晶体的用途。
本发明的技术方案如下:
本发明提供一种化学式为Li2In2SiS6的化合物。
本发明提供的Li2In2SiS6化合物的制备方法,其步骤如下:
将含Li物质、含In物质、含Si物质和S按照摩尔比Li∶In∶Si∶S=2∶2∶1∶6的比例配料并混合均匀后,加热至800-900℃进行固相反应(原则上,采用一般化学合成方法都可以制备Li2In2SiS6化合物;本发明优选固相反应法),得到化学式为Li2In2SiS6的化合物;所述含Li物质为硫化锂或硫铟锂;所述含Si物质为硅单质或二硫化硅;所述含In物质为铟单质或三硫化二铟或硫铟锂。
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