[发明专利]中空玻璃制造方法和装置无效
申请号: | 201210048121.4 | 申请日: | 2012-02-23 |
公开(公告)号: | CN102701606A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 马里奥·巴尔比;奥里阿诺·柏腾赛罗 | 申请(专利权)人: | 保特罗IG有限责任公司 |
主分类号: | C03C27/10 | 分类号: | C03C27/10 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;施蕾 |
地址: | 意大利*** | 国省代码: | 意大利;IT |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 中空玻璃 制造 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及中空玻璃制造方法。
背景技术
众所周知,为了制造中空玻璃,第一个玻璃板和至少第二个玻璃板被放置为面向内部隔离框架的两侧以形成中空的板-框架组件,其中隔离框架通常被设置为与两个玻璃板的外周部接触,并与这两个玻璃板限定用于惰性气体的腔。保持板与框架的接触,密封剂的涂层或条随后被沉积在板-框架组件的外周表面上以密封该腔。
在已知方法中,使用包括水平支撑和传送表面的密封机来使密封剂沉积,组件基本竖直放置在密封机上,密封机包括在组件的传送方向上间隔的两个对齐的动力线性传送带。
在这两个传送带之间,该机器包括动力密封剂分配器头,该分配器头可竖直地上下移动,并围绕垂直于竖直面的水平轴线旋转。
在诸如此类的机器上,密封剂在板-框架组件凸出于两个传送带之间的情况下通过竖直地移动分配器头而沉积在该组件的前边缘和后边缘上,并且在分配器头处于固定位置的情况下通过使板-框架组件在两个传送带之间前后移动而沉积在顶边缘和底边缘上。当进行密封剂的沉积时,组件由附接至外部玻璃板中的一个上的吸杯装置保持。
在具有一个或多个弯曲或倾斜边缘部的中空玻璃的情况下,通过使板-框架组件的前后移动与分配器头的竖直移动同步来使密封剂沉积在这些边缘部的每一个上。
虽然被广泛使用,但上述密封方法具有缺点,即必须使板-框架组件相对于分配器头前后移动,这难以使该组件的零部件保持在正确的相对位置上。
这基本上归因于移动的组件的“引导”部分和“尾随”部分,当它们沿着使一个传送带与另一个传送带分离的路径部分行进时的凸出,并归因于如下事实,通常不是所有玻璃板都被吸杯装置保持和/或停留在传送带底部。
因此,常常出现达不到质量标准的不良品。
所采用的密封机通常是非常复杂且昂贵的,并且必须不断检查以确保两条传送带不仅良好受控且彼此同步以在组件的两个行进方向上及时移动,而且还与分配器头的移动和旋转良好同步。事实上,传送带的任何微小的定位错误或急剧停止/启动都导致密封剂条的破坏和/或缺陷,从而影响内部腔的密封。
发明内容
本发明的目的是提供中空玻璃制造方法,该方法被设计为针对上述缺陷而提供简单、低成本的解决方案,该方法尤其防止玻璃板和框架在密封边缘时的相对运动,而不用考虑构成中空玻璃的玻璃板的数量。
根据本发明,提供了一种制造中空玻璃的方法,该方法包括如下步骤:
形成组件,所述组件包括至少两个相对的玻璃板、以及分离所述玻璃板的至少一个内部隔离框架;
将所述组件保持在基本竖直的位置上;以及
使用分配器头在所述组件的外周边缘上沉积密封剂条,
所述方法的特征在于,所述密封剂的沉积包括如下步骤:
在沉积所述密封剂的整个过程中使所述组件保持静止;以及
使所述分配器头沿着连续路径绕所述组件移动,使所述分配器头沿着连续路径移动包括如下步骤:
使所述玻璃板中的至少一个停留在位于下方的可移动支撑部件上;
使所述支撑部件中的一个或多个从所述组件上相继脱离以使所述分配器头通过;以及
在所述分配器头通过后使所述支撑部件中的至少一些返回所述组件上。
本发明还涉及一种制造中空玻璃的装置。
根据本发明,提供了用于制造中空玻璃的装置,其包括组件,所述组件进一步包括至少两个相对的玻璃板、分离所述玻璃板的至少一个内部隔离框架、以及沿着所述组件的外周边缘延伸的密封剂条,
所述装置包括用于将所述组件支撑在基本竖直的位置上的支撑装置;以及用于沉积所述密封剂并形成所述条的分配器头,所述装置的特征在于,
所述支撑装置将所述组件支撑在固定位置上,并且包括位于所述玻璃板中的至少一个的下方的多个可移动支撑部件;以及用于移动所述支撑部件往返于支撑所述组件的支撑位置的动力致动装置,所述装置还包括用于使所述分配器头沿着连续路径围绕所述组件移动的驱动装置。
附图说明
将参照附图结合实施例描述本发明的多个非限制性实施方式,在附图中:
图1示出根据本发明的用于制造中空玻璃的装置的第一优选实施方式的立体图;
图2和3分别示出图1的装置的更大尺寸的侧视图和正视图;
图4示出根据本发明的用于制造中空玻璃的装置的第二优选实施方式的立体图;
图5和6分别示出图4的装置的更大尺寸的侧视图和正视图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于保特罗IG有限责任公司,未经保特罗IG有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210048121.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。