[发明专利]成像装置和成像系统有效
申请号: | 201210036291.0 | 申请日: | 2012-02-17 |
公开(公告)号: | CN102646692A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 铃木隆典 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H04N5/335 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 曹瑾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 装置 系统 | ||
技术领域
本发明涉及使用成像板的成像装置。
背景技术
使用具有大面积光电转换单元的光电检测器的超高感度成像装置正在被研究。成像器件的尺寸(入射面的面积)的增加使得能够在增加光电检测器的面积的同时实现足够的分辨率(即,实现的光电检测器的数量增加)。可通过在硅板或玻璃板中形成光电检测器以薄板状成像器件(成像板)的形式实现这种成像器件。
现在,有效地使用保持板以确保大型、薄型的成像板的机械强度。日本专利公开No.2006-302990公开了保持大面积成像板的基板(保持板),成像板和基板通过诸如银环氧树脂等的粘接剂被粘接。
发明内容
根据本发明的一个方面的成像装置包括:具有光入射的前面和具有包含中心的中间区域和包围中间区域的周边区域的后面的成像板;具有被配置为从后面侧保持成像板的保持面的保持板;和通过被固定于成像板和保持板被设置在周边区域和保持面之间的中间部件,其中,中间部件不在中间区域的至少一部分和从保持面延伸的平面上的面向中间区域的面向(facing)区域的至少一部分之间延伸,并且在其间形成空隙,并且成像板的线膨胀系数和中间部件的线膨胀系数之间的算术差小于保持板的线膨胀系数和中间部件的线膨胀系数之间的算术差。由于本公开的一个方面,提供可减少由于温度变化导致的损伤和变形的成像装置。
参照附图阅读示例性实施例的以下说明,本发明的其它特征将变得十分明显。
附图说明
图1A和图1B是用于描述第一实施例的示意图。
图2A和图2B是用于描述第二实施例的示意图。
图3A和图3B是用于描述第三实施例的示意图。
图4A和图4B是用于描述第四实施例的示意图。
图5A和图5B是用于描述第五实施例的示意图。
图6A和图6B是用于描述第六实施例的示意图。
图7A和图7B是用于描述第七实施例的示意图。
图8A和图8B是用于描述第八实施例的示意图。
图9是用于描述第九实施例的示意图。
图10A和图10B是用于描述实施例的示意图。
图11A和图11B是用于描述成像装置的例子的示意图。
具体实施方式
首先参照图11A和图11B描述根据本发明的实施例的成像装置1的概要。成像装置1具有成像板2和保持板10,图11A示出成像板2和保持板10之间的位置关系。图11B是沿图11A中的成像板2的XIB-XIB的断面图。
成像板2是具有前面210和作为前面210的相对侧的面的后面220这两个主面的固态成像器件(图像传感器)。被成像的光入射到前面210,因此,前面210也可被称为入射面。一般地,两个主面,即,前面210和后面220具有相同的形状和相同的面积,使得它们的形状为正方形。前面的面积越大(因此后面220越大),本发明的实施例的优点变得越明显,但是,本发明的适用性不受前面210的面积限制。在实际的使用中,前面210的面积的例子可以为300mm2或1000mm2左右。并且,即使通过对于前面210具有10000mm2左右的面积(这是热膨胀的影响会较大的尺寸)的成像装置1,本发明的实施例也可产生充分的优点。
前面210具有第一区域211和包围第一区域211的第二区域212。后面220具有周边区域221和被周边区域221包围的中间区域222。因此,第二区域212是在前面210上位于第一区域211的外侧(在前面210的外周和第一区域211的外周之间)的区域。周边区域221是在后面220上位于中间区域222的外侧的区域(在后面220的外周和中间区域222的外周之间)。中间区域222包含后面220的中心。在不能明确确定中心的情况下,后面220的几何重心被取为后面220的中心。中间区域222可占据后面220的面积的1/4或更多,或者可占据后面220的面积的1/2或更多。
第二区域212是与周边区域221对应的区域即从后面220投影到前面210上的周边区域221的具有与周边区域221基本上相同的形状的正交投影区域。第一区域211是与中间区域222对应的区域即从后面220投影到前面210上的中间区域222的具有与中间区域222基本上相同的形状的正交投影区域。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210036291.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有改进的流变性的基于天然原料的磨剂
- 下一篇:动力工具
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的