[发明专利]一种消除冷轧硅钢连续退火炉无氧化水印缺陷的方法有效
申请号: | 201210005179.0 | 申请日: | 2012-01-10 |
公开(公告)号: | CN102560070A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 裴润奇;郭华;郭岩;罗玉田 | 申请(专利权)人: | 山西太钢不锈钢股份有限公司 |
主分类号: | C21D9/56 | 分类号: | C21D9/56;C21D1/26;C21D11/00 |
代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人: | 卢茂春 |
地址: | 030003*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 消除 冷轧 硅钢 连续 退火炉 氧化 水印 缺陷 方法 | ||
技术领域:
本发明属于冶金企业中高牌号无取向硅钢退火技术,具体涉及一种消除冷轧硅钢连续退火炉无氧化水印缺陷的方法。
背景技术
冷轧硅钢连续退火炉无氧化炉段因其升温快、可提高磁性能而在硅钢连续退火线上广泛应用。无取向硅钢连续退火机组均使用NOF(无氧化炉)炉段,但在生产高牌号无取向硅钢的过程中,出现无氧化水印的缺陷。
为了克服这一缺点,避免在NOF炉段产生的水印缺陷,目前国内各硅钢生产企业成功应用的主要方法有以下几种:
⑴将无氧化炉段改造为辐射管隔焰加热炉段(RTF)(备注:具有NOF炉段的连续退火线仅生产50W470以下中低牌号硅钢)。该方法设备改造投资大,周期长,短期效益损失大。
⑵减小水冷辊的水流量。仅靠该法不能彻底消除无氧化水印缺陷,且较难调整到合适的水流量(既减少无氧化缺陷同时保证水冷辊的正常冷却)。
发明内容
为了克服上述设备、技术的局限性,生产出表面光洁、没有无氧化炉段水印缺陷且磁性能优良的无取向硅钢产品,本发明提供一种消除冷轧硅钢连续退火炉无氧化水印缺陷的方法。
无氧化水印缺陷形成机理:硅钢尤其高牌号硅钢,硅含量高,在氧化气氛(含有O2、CO2、H2O等)气氛中极易氧化,因为硅比铁更容易氧化,而且硅的氧化反应是不可逆的。NOF炉一般采用的空燃比<1,煤气没有充分燃烧,炉内的气氛中既有还原性气体又有氧化性气体。在这种高温气氛中发生内氧化还是外氧化,决定于氧原子通量的大小。如果氧原子的通量大于Si的原子通量,氧原子渗入基体金属内将发生内氧化。在上述无氧化燃烧状态下,Si比Fe更易氧化,在选择氧化作用下,其氧化方式将以内氧化为主。通过内氧化形核和长大过程逐渐发展。当内氧化达到一定极限浓度时,就向外扩展形成一个连续的SiO2膜,使内氧化终止。
钢板表面形成FeO ·SiO2膜的地方与未形成的地方颜色不一致,便成为表面缺陷。因此种缺陷是冷凝水附着在带钢表面形成的,故称作无氧化水印缺陷。
(1)硅钢退火炉PH+NOF段共有6段,其中PH段,NOF段5段,炉长42.3m。
(2)无氧化采用明火燃烧,直接加热带钢。焦炉煤气的主要成分:甲烷CH4占20—30%、氢气H2占50—60%。
2CH4+3O2=2CO2+2H2O
2H2+O2=2H2O
无氧化段煤气燃烧产生大量水。
(3)PH/NOF段共有21支炉辊,具体炉段与炉辊对应如下:
。
(4)形成原因
ⅰ、当NOF段炉温较高时,需要更多的焦炉煤气;焦炉煤气燃烧形成大量水;水汽在温度较低的水冷辊表面凝结,带钢通过水冷辊时沾在带钢表面形成“无氧化水印”;
ⅱ、硅钢尤其高牌号硅钢,硅含量高(1.5%—3.2%),在氧化气氛(含有O2、CO2、H2O等)气氛中极易氧化,因为硅比铁更容易氧化,而且硅的氧化反应是不可逆的。NOF炉一般采用的空燃比<1,煤气没有充分燃烧,炉内的气氛中既有还原性气体又有氧化性气体。
ⅲ、50TW800以下低牌号硅钢表面发生的化学反应
Fe+O2→FeO
Fe+H2O→FeO
50TW600以上中高牌号表面发生的化学反应
Fe+O2→FeO
SiO2+2Fe+2H2O →2 FeO ·SiO2+2H2
低牌号硅钢表面化学成分一致,颜色均匀;中高牌号表面有部分FeO ·SiO2,与带钢基板颜色不一致,产生色差即为“无氧化水印”缺陷。
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