[发明专利]一种LED 及LED 的粉浆平面涂覆工艺无效

专利信息
申请号: 201110362430.4 申请日: 2011-11-15
公开(公告)号: CN102496671A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 林松 申请(专利权)人: 浙江寰龙电子技术有限公司
主分类号: H01L33/50 分类号: H01L33/50;H01L33/00
代理公司: 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 代理人: 韩洪
地址: 313118 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 led 平面 工艺
【权利要求书】:

1.一种LED,包括基板、LED芯片和反射杯,所述LED芯片封装在基板上,LED芯片外安装有反射杯,其特征在于:所述LED芯片的上表面和四个侧面外均涂覆有矩形的荧光粉层,所述荧光粉层的外部包覆有矩形的透明保护胶体层。

2.如权利要求1所述的一种LED,其特征在于:所述荧光粉层的厚度为2mm,透明保护胶体层的厚度为3mm。

3.一种LED的粉浆平面涂覆工艺,其特征在于:依次包括以下步骤:

A)荧光粉层形状控制:将LED芯片封装在基板上以后,将LED芯片上电极部分通过感光胶体遮挡住,形成电极遮挡部分,只留下需要荧光粉覆盖的芯片发光区域;

B)制备荧光粉层:在LED芯片上未遮挡的芯片发光区域制备成厚度一致且均匀的荧光粉层;

C)第一去除电极遮挡部分:过80~100分钟后将电极遮挡部分去除,得到固定形状的荧光粉层;

D)保护胶体层形状控制:将LED芯片上电极部分通过感光胶体遮挡形成电极遮挡部分,暴露出已形成的荧光粉层,并留出保护胶体层的厚度空间;

E)涂覆保护胶体层:在暴露出的荧光粉层外部的厚度空间内涂覆厚度均匀的透明保护胶体层;

F)第二去除电极遮挡部分:过170~190分钟后将电极遮挡部分去除,得到包裹在荧光粉层外部的透明保护胶体层,完成粉浆平面涂覆工艺。

4.如权利要求3所述的一种LED的粉浆平面涂覆工艺,其特征在于:所述B)步骤中制备的荧光粉层的厚度为2mm;E)步骤中涂覆的透明保护胶体层的厚度为3mm。

5.如权利要求3或4所述的一种LED的粉浆平面涂覆工艺,其特征在于:所述C)步骤中过90分钟后将电极遮挡部分去除;F)步骤中过180分钟后将电极遮挡部分去除。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江寰龙电子技术有限公司,未经浙江寰龙电子技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110362430.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top