[发明专利]一种非接触式超声波面形修抛方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及小口径脆性高硬度材料的高精度非球面超声波抛光技术，属于精密光学加工技术领域。

背景技术

脆性硬质合金材质的小口径高精度非球面模芯是低熔点玻璃热压成型技术中的关键部件，其面形精度直接影响最终的成型光学零件精度。其光学表面的加工工序首先通过精密铣削加工使表面成形，然后进行抛光获得最终的面形精度和达到光学等级的表面光洁度，最后对光学表面镀类金刚石膜层。抛光工序直接影响最终面形和光洁度，是控制面形最为重要的工序。

目前，对脆性硬质合金的抛光主要有以下几种方式：

1、常规研磨抛光：一般使用金刚石研磨膏作为研磨剂采用传统的接触式抛光盘研磨方法进行抛光，通过抛光工具和工件之间的相对移动实现抛光磨料颗粒对表面材料的划擦去除，并采用边抛边检的方法对面形进行修正。对于小口径的非球面模芯来说，由于受抛光盘尺寸影响，难以精确控制各抛光区域内的材料去除量，尤其是口径为毫米量级的高次非球面模芯，很难获得高精度的表面面形。

2、接触式超声波抛光：同样采用金刚石研磨膏作为研磨剂，通过超声波发生器、换能器、变幅杆把超声振动传递到工具头上，工具头对工件施加一定的抛光压力，磨料颗粒受到工具头的高速高频振动的直接锤击不断撞击工件表面，从而实现表面材料去除的目的。这种抛光模式下由于工具头和工件发生接触，抛光过程中的材料去除量的分布和工具头形状有关，工具头形状会被复制。由于抛光过程中磨料颗粒同样会损耗工具头，因而工具头的形状在抛光过程中一直发生变化，其去除函数也一直在发生变化。这种抛光技术目前常见于对表面面形要求不高的模具模芯制造，对于光学应用的小口径非球面模芯这种抛光方法无法实现高精度抛光。

3、二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法：中国发明专利(CN1618568)公开了一种二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法，适用于低成本实现超光滑平面抛光；其步骤包括：将被抛光工件浸泡在抛光液体内并置于密封容器中，容器中施加一定的压力并通过液体传递到工件表面提高抛光效率。设备工作时由浸入式超声波换能器在液体中产生垂直方向的高频液体振动，由机械装置使密封容器产生低频的水平方向振动从而行成两个方向上的综合振动，在振动作用下实现表面材料的去除。该设备还设计的专门的装置使工件可以在抛光液体中进行自转和公转，以保证抛光的均匀性。该抛光方法将抛光分为两级抛光，第一级抛光抛光液中加入精细磨料和化学物质进行粗抛，第二级抛光采用纯液体抛光进行精抛。该发明主要用于平面的超光滑抛光，抛光时整个光学平面都受到液体振动的作用，同时去除材料，由于设备采用了均化处理，理论上来说整个表面的材料去除量应该是一致的。该设备仅适合对各种材料的平面的均匀超光滑抛光，无法实现对表面的局部修抛，无法修正表面面形，其最终面形精度取决于抛光前的表面面形。

发明内容

本发明的目的在于提供一种适合于脆性硬质材料的小口径高精度非球面面形加工，能实现数控加工的非接触式超声波面型修抛方法及其装置。

实现本发明目的的技术方案是提供一种非接触式超声波面型修抛方法，包括如下步骤：

(1)对被加工表面进行一定时间的非接触式超声波面型修抛加工，检测修抛区域内的材料去除分布，得到被加工材料单点呈高斯型分布的去除函数；所述的非接触式超声波面型修抛加工为：工具头工作面和被加工表面之间充满抛光液，并保持工具头工作面和被加工表面间的间隔距离恒定；

(2)设定覆盖整个被加工表面的修抛路径；

(3)依据所得到的材料去除函数和被加工面的残余误差，确定工具头在修抛路径上各点的驻留时间；

(4)依据修抛路径及路径上各点的驻留时间，编制加工程序，输入数控加工系统，对被加工表面进行非接触式超声波面型修抛加工；

(5)检测修抛后的面形，若未达到要求，则重复步骤(2)～(4)，直至得到满足要求的面形。

所述的抛光液包括纯水与磨料颗粒混合的悬浮液体；所述的磨料颗粒为氧化铝微粉或碳化硼微粉。

工具头工作面和被加工表面的间隔距离为0.1～1mm。