[发明专利]一种磁控溅射用靶材无效
| 申请号： | 201110361005.3 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN102503157A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 武瑞军;田富 | 申请（专利权）人： | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C23C14/35 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫 |
| 地址： | 215200 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 用靶材 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁控溅射用靶材，其特征在于：包括板状的靶材本体，所述的靶材本体上对应于环形刻蚀槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱状。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用靶材，其特征在于：所述的凸棱状部分的厚度比所述的靶材本体的其他部分厚10mm。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用靶材，其特征在于：所述的凸棱状部分向四周以斜面过渡。
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用靶材，其特征在于：所述的凸棱状部分位于该靶材的中心位置。
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