[发明专利]抛光液输送装置

说明书

技术领域

本发明涉及集成电路领域，具体而言，涉及一种抛光液输送装置。

背景技术

随着大规模集成电路布线层数越来越多，为保证下一道工序的有效进行，需要对每一层布线进行平坦化。化学机械抛光(chemical-mechanical polishing，简称CMP)是最好的也是唯一的全局平面化技术。目前，化学机械抛光存在抛光效果差的缺陷。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

经过发明人深入研究后发现，在化学机械抛光过程中，由于已知的抛光液输送装置输送的抛光液的压力和流量不稳定，这样抛光液在抛光垫上分布不均匀，从而导致化学机械抛光的抛光效果差(表面抛光厚度不均匀)。

为此，本发明的一个目的在于提出一种可以稳定地输送抛光液的抛光液输送装置。

为了实现上述目的，根据本发明的实施例提出一种抛光液输送装置，所述抛光液输送装置包括抛光液储存容器；抛光液输送管，所述抛光液输送管的进液端与所述抛光液储存容器相连；开关阀，所述开关阀设在所述抛光液输送管上用于接通和断开所述抛光液输送管；输送泵，所述输送泵设在所述抛光液输送管上以将所述抛光液储存容器内的抛光液从所述抛光液输送管的出液端排出，其中所述输送泵位于所述抛光液储存容器和所述开关阀之间；和减压阀，所述减压阀设在所述抛光液输送管上且位于所述输送泵和所述开关阀之间用于稳定抛光液的压力。

在利用根据本发明实施例的抛光液输送装置输送抛光液时，所述输送泵运行以便将所述抛光液储存容器内的抛光液通过所述抛光液输送管输送到抛光垫上。由于所述输送泵的脉冲波动比较大，因此所述输送泵输出的抛光液的压力波动也比较大。根据本发明实施例的抛光液输送装置通过在所述抛光液输送管上设置位于所述输送泵和所述开关阀之间的所述减压阀，从而可以对所述输送泵输出的抛光液进行减压以便稳定所述输送泵输出的抛光液的压力和流量。换言之，离开所述减压阀的出口的抛光液的压力和流量非常稳定。通过利用所述抛光液输送装置输送抛光液，可以使输出的抛光液的压力和流量非常稳定，即可以使输出的抛光液的压力和流量的波动非常小。因此，通过利用所述抛光液输送装置输送抛光液，可以使输出的抛光液均匀地分布在抛光垫上，从而大大地提高抛光效果。

另外，根据本发明实施例的抛光液输送装置可以具有如下附加的技术特征：

根据本发明的一个实施例，所述抛光液输送装置还包括调节阀，所述调节阀与所述减压阀相连用于调节抛光液在所述减压阀的进口和出口之间的压力降。通过设置所述调节阀，可以根据具体的抛光工艺来利用所述调节阀调节抛光液的压力，从而使所述抛光液输送装置可以用于各种抛光工艺中。

根据本发明的一个实施例，所述调节阀为气体调节阀。

根据本发明的一个实施例，所述抛光液输送装置还包括止回阀，所述止回阀设在所述抛光液输送管上且位于所述减压阀和所述开关阀之间。通过设置所述止回阀，可以在停止向抛光垫输送抛光液时有效地防止所述抛光液输送管内的抛光液回流，从而大大地降小所述抛光液输送管内的抛光液的压力的下降幅度，以便将所述抛光液输送管内的抛光液的压力维持在一定高度，这样可以在再次向抛光垫输送抛光液时能够迅速地提供足够流量的抛光液。

根据本发明的一个实施例，所述止回阀邻近所述开关阀，这样可以将所述抛光液输送管内的抛光液回流减至最小。

根据本发明的一个实施例，所述减压阀、所述调节阀、所述止回阀和所述开关阀均为多个，所述多个减压阀、所述多个调节阀、所述多个止回阀和所述多个开关阀构成多个抛光液输送支路且每个所述抛光液输送支路包括一个所述减压阀、一个所述调节阀、一个所述止回阀和一个所述开关阀，其中所述多个抛光液输送支路并联且每个所述抛光液输送支路均与所述输送泵串联。通过设置多个所述减压阀、多个所述调节阀、多个所述止回阀和多个所述开关阀，可以构成多个所述抛光液输送支路，这样可以同时且各自独立地向多个抛光垫输送抛光液。

根据本发明的一个实施例，所述抛光液输送装置还包括抛光液过滤器，所述抛光液过滤器连接在所述抛光液输送管上且位于所述输送泵和所述减压阀之间。通过设置所述抛光液过滤器，可以将抛光液中的粒径较大的颗粒过滤掉，从而可以在抛光过程中防止粒径较大的颗粒划伤晶圆的表面。