[发明专利]下颌骨修复支架及制造方法无效

专利信息
申请号: 200910091844.0 申请日: 2009-08-27
公开(公告)号: CN101642393A 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 归来;李晓峰;姜谦;刘灿;武星 申请(专利权)人: 北京吉马飞科技发展有限公司
主分类号: A61F2/28 分类号: A61F2/28;A61L27/04;A61L27/06
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 代理人: 吴小灿
地址: 100085北京市海淀区上*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 颌骨 修复 支架 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及在医疗临床的颌面部下颌骨缺损修复手术中使用的植入结构体物件,特别是一种能够符合大面积下颌骨缺损形态修复等要求的下颌骨修复支架及制造方法。

背景技术

由于肿瘤切除或创伤等原因,造成了下颌骨的缺损,同时也影响了患者口腔内部的基本功能,给患者的基本生活造成很大影响。目前临床上一般利用不同型号的人工髁突及重建钛板或移植自体骨来进行修复。但是此种方法在临床上的应用有较大局限,一般适合于修复小部分缺损,且人工髁突及重建钛板为统一规格产品,形态修复远远满足不了临床的需求。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的缺陷或不足,提供一种能够符合大面积下颌骨缺损形态修复等要求的下颌骨修复支架及制造方法。所述下颌骨修复支架兼具形态修复和功能修复的作用,从而满足患者的个性化需求。

本发明的技术方案如下:

下颌骨修复支架,其特征在于,包括下颌骨形支架本体,所述下颌骨形支架本体具有依次连续分布的髁突区、下颌升支区、下颌角区、下颌植骨区和骨连接区;所述下颌角区和下颌植骨区均带有通孔阵列结构,所述骨连接区带有沉孔阵列结构。

所述沉孔阵列结构中的沉孔直径范围为1.0mm~5.0mm,所述通孔阵列结构中的通孔直径范围为1.0mm~5.0mm。

所述沉孔阵列结构中的沉孔与沉孔的中心距范围为1.0mm~5.0mm,所述通孔阵列结构中的通孔与通孔的中心距范围为1.0mm~5.0mm。

所述下颌骨形支架本体采用永久性植入颅颌面骨修复的金属或非金属材料。

所述下颌骨形支架本体采用满足13810标准的外科植入物用纯钛或钛合金材料,或者采用满足ISO或ASTM标准的六铝七铌钛合金材料。

所述下颌骨修复支架的制造方法,其特征在于包括以下步骤:

A.采集患者包括下颌骨区域的CT或MRI图像,获取DICOM格式的图像数据;

B.利用所述DICOM格式的图像数据结合三维重建软件进行三维重建,然后在重建图像的基础上进行下颌骨修复支架的设计;

C.所述下颌骨修复支架的设计要求内表面要和所重叠的骨面贴合,外表面要符合修复所需的形态;

D.将所述下颌骨修复支架的设计完成的数据转换为可加工数据,然后采用数控中心或数控铣床进行数字化加工,加工出上颌骨修复支架的雏形;

E.对上颌骨修复支架进行后期加工处理,其中包括打孔,打磨工序。

医学中的CT全称:computed tomography,CT是一种功能齐全的病情探测仪器,它是电子计算机X射线断层扫描技术简称。

MRI是Magnetic Resnane Iamging的简称,中文为磁共振成像。cad-Computer Aided Design的缩写,即计算机辅助设计。

DICOM是Digital Imaging and Communications in Medicine的英文缩写,即医学数字成像和通信标准。在DICOM标准中详细定义了影像及其相关信息的组成格式和交换方法,利用这个标准,人们可以在影像设备上建立一个接口来完成影像数据的输入/输出工作。

本发明的技术效果如下:

本发明的下颌骨修复支架能够符合大面积下颌骨缺损形态修复,兼具形态修复和功能修复的作用,从而满足患者的个性化需求。

本发明的下颌骨修复支架及制造方法,不仅具有个性化特点,而且兼具形态修复和功能修复的作用。本发明的下颌骨修复支架主要针对于下颌骨的大面积缺损修复,为其提供一种整体解决方案。修复支架整体形态和患者下颌形态相拟合,支架具有植骨槽,便于医生进行自体骨的移植和种植牙等一系列的手术。

附图说明

图1是本发明第一种下颌骨修复支架的结构示意图。

图2是本发明第二种下颌骨修复支架的结构示意图。

图3是本发明第三种下颌骨修复支架的结构示意图。

图4是本发明下颌骨修复支架的使用状态图。

附图标记列示如下:

1-髁突区,2-下颌升支区,3-下颌角区,4-下颌植骨区,5-骨连接区。

具体实施方式

下面结合附图(图1-图4)对本发明进行说明。

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