专利详情
【摘要】:
一种制备H占据BiVO4‑OVs光催化材料的方法及其应用,制备方法包括:将一定摩尔量的Bi(NO3)3·5 H2O溶解在甘油中;将一定摩尔量NaVO3·2 H2O溶解在去离子水中;混合前述溶液;将混合液转移到聚四氟乙烯内衬的高压釜中,180℃保持8 h;将溶剂热合成产物经过10000 rpm离心分离,去离子水和乙醇洗涤,60℃烘干4 h;将洗净的溶剂热反应产物在马弗炉内300℃煅烧5 h;煅烧产物在Ar/H2气氛中在350℃温度下退火10 h得到H占据BiVO4‑OVs光催化材料。本发明具有光响应范围宽、催化活性高、降解速率快、水解能力强的优势,能够充分有效利用太阳能。
【主权项】:
1.一种H占据BiVO4‑OVs的光催化材料,其特征在于,氢原子部分或完全占据含氧空位的BiVO4结构中的氧空位。
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/tech/sell/s_2305599.html,转载请声明来源钻瓜专利网。