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[发明专利]空间和SNR图像压缩的方法-CN200580023845.1无效
发明人： I·基伦科 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2005-07-06 - 公布日： 2007-06-20 - 主分类号： H04N7/00 文献下载
摘要：空间和SNR可伸缩图像压缩的通用方法包括：对输入图像(vi)进行高分辨率编码(202a)以获得高分辨率编码数据(coHR，LQ)，作为基本数据；在所述高分辨率编码数据(coHR，LQ)的基础上衍生第一缩减表示图像在比较第一缩减表示图像(p1)和第二缩减表示图像(p2)的基础上，较低分辨率编码(214)较低分辨率质量改善数据(coMR，MQ)，该较低分辨率质量改善数据用于改善可从所述高分辨率编码数据(coHR，LQ
空间 snr 图像压缩方法

[发明专利]一种基于l_q的成像雷达方位模糊抑制方法-CN201110310655.5有效
发明人：张冰尘;洪文;吴一戎;蒋成龙 -专利权人：中国科学院电子学研究所
申请日： 2011-10-14 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： G01S7/36 文献下载
摘要：本发明公开一种基于lq的成像雷达方位模糊抑制的方法，涉及成像雷达信号与信息处理技术，该方法利用成像雷达参数、雷达与观测场景的几何关系，以及天线方向图等信息，根据雷达回波的观测模型，构建包含天线旁瓣信息在内的观测矩阵，通过lq重建算法实现雷达成像，同时抑制方位向模糊。
一种基于 sub 成像雷达方位模糊抑制方法

[发明专利]液晶显示面板-CN200510075866.X有效
发明人：中尾健次;小川慎司;分元博文 -专利权人：东芝松下显示技术有限公司
申请日： 2005-05-27 - 公布日： 2005-11-30 - 主分类号： G02F1/133 文献下载
摘要：OCB模式液晶显示面板包括一对电极基板(1，2)；夹在一对电极基板(1，2)之间的、液晶分子的取向状态在显示区域的内侧被这些电极基板(1，2)施加的驱动电压控制的液晶层(LQ)；以及与该液晶层(LQ)相邻
液晶显示面板

[发明专利]用于测定导轨平直度的方法和装置-CN02813361.7无效
发明人：埃利希·普芬尼格尔 -专利权人：因温特奥股份公司
申请日： 2002-07-01 - 公布日： 2004-10-06 - 主分类号： G01B11/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于侧定导轨(FS)的平直度的方法和装置，其中导轨(FS)在很大程度上平行于基准轴(AA’)定向，由光源(LQ)至少沿基准轴(AA’)发射一个光束，由一个光检测器(LD)对光束进行检测，其中光源(LQ)或光检测器(LD)在导轨上滑移，和对作为导轨(FS)与基准轴(AA’)之间的间隔的变化的导轨(FS)的挠曲或翘曲进行检测。
用于测定导轨平直方法装置

[发明专利]一种基于简化哈密顿函数的自适应LQ扰动抑制方法-CN202110348657.7在审
发明人：文利燕;王肇宇;姜斌;叶慧;杨少华;董敏 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： G05B13/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于简化哈密顿函数的自适应LQ扰动抑制方法，针对非最小相位或最小相位线性连续系统，在系统参数和不匹配的输入扰动均未知的情况下设计一个基于控制分离的LQ最优控制方案，同时可以保证系统所有信号有界且能调节输出信号为零
一种基于简化哈密函数自适应 lq 扰动抑制方法

[发明专利]含填料膜-CN202310052324.9在审
发明人：冢尾怜司;林慎一;筱原诚一郎;田中雄介 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2017-11-20 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：填料的平均粒径为1～50μm，树脂层的总厚为填料的平均粒径的0.5倍以上且2倍以下，相对于含填料膜的长边方向的一端的最小填料间距离(Lp)，沿膜长边方向距该一端为5m以上的另一端的最小填料间距离(Lq)与(Lp)之比(Lq/Lp)为1.2以下。
填料

[发明专利]含填料膜-CN201780074602.3有效
发明人：冢尾怜司;林慎一;筱原诚一郎;田中雄介 -专利权人：迪睿合株式会社
申请日： 2017-11-20 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：μm，树脂层的总厚为填料的平均粒径的0.5倍以上且2倍以下，相对于含填料膜的长边方向的一端的最小填料间距离(Lp)，沿膜长边方向距该一端为5m以上的另一端的最小填料间距离(Lq)与(Lp)之比(Lq/Lp)为1.2以下。
填料

[发明专利]处理指令的方法以及图计算装置-CN202080106413.1在审
发明人：朱凡;周若愚;孙文博;周昔平 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G06F9/38 文献下载
摘要：该图计算装置基于数据流架构，其包括信息缓冲器IB和加载队列LQ，IB用于缓存指令队列，LQ用于缓存读取指令队列。该方法包括：IB将第一指令发射至LQ，第一指令用于请求读取数据，第一指令符合第一预设条件，第一预设条件包括：第一指令在IB中的投机位设置为是(S401)；IB确定第一投机ID，并将第一投机ID存入第一指令在
处理指令方法以及计算装置

[发明专利]一株偶联产氢的异化铁还原细菌-CN201910249017.3有效
发明人：刘洪艳;李凯强 -专利权人：天津科技大学
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C12N1/20 文献下载
摘要：所述丁酸梭菌具体为丁酸梭菌(Clostridium butyricum)LQ25，保藏编号：CGMCC NO.16862。该菌株同时具有异化铁还原及厌氧发酵产氢能力。菌株能够利用可溶性Fe(III)与不可溶性Fe(III)作为电子受体进行异化铁还原；能够利用蔗糖，葡萄糖和丙酮酸钠等进行厌氧发酵产氢；在Fe(III)为电子受体，葡萄糖等为电子供体的氧化还原培养体系中，菌株LQ25菌株LQ25的发酵产氢与异化铁还原性质偶联关系紧密，这为研究发酵型异化铁还原菌提供了新的选择。
一株偶联产异化还原细菌

[发明专利]一种基于光内送粉激光加工喷头增材制备钛合金的方法-CN202010440034.8有效
发明人：石拓;李刚;金朝龙;傅戈雁;张津超 -专利权人：苏州大学
申请日： 2020-05-22 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： B23K26/34 文献下载
摘要：本发明的方法确保增材过程中Lt≤Lq；所述Lq为粉末中心到保护气体最外侧的距离；Lt为粉末中心到增材过程中成形件温度为400℃部位的最大距离。本发明的方法为通过闭环控制的手段确保增材过程中Lt≤Lq，即保证保护气体能够充分保证覆盖增材过程中成形件的高温区，避免增材过程中由于热量累积导致局部温度过高、不可控，保证了最终钛合金的成分均一、性能稳定
一种基于光内送粉激光加工喷头制备钛合金方法

[实用新型]显示装置-CN201921638065.3有效
发明人：冈真一郎 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：显示装置(DSP1)具有：具有柔性的基板(10)；与基板(10)相对且具有柔性的基板(20)；位于基板(10)与基板(20)之间的液晶层(LQ)；相对于基板(10)位于液晶层(LQ)的相反侧的多个偏振板(PLB1)；俯视观察时位于多个偏振板(PLB1)之间且具有柔性偏振膜(PLF1)；相对于基板(20)位于液晶层(LQ)的相反侧的多个偏振板(PLB2)；俯视观察时位于多个偏振板(PLB2)之间且具有柔性的偏振膜
显示装置

[外观设计]鞋底（LQ）-CN201830521790.7有效
发明人：韦翠丹 -专利权人：韦翠丹
申请日： 2018-09-17 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： 02-04 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：鞋底（LQ）。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于鞋底。3．本外观设计产品的设计要点：在于形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。
外观设计图片

[外观设计]瓶子（LQ）-CN201730249966.3有效
发明人：李勤 -专利权人：李勤
申请日： 2017-06-17 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： 09-01 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称瓶子（LQ）。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用于瓶子。3．本外观设计产品的设计要点在于产品的外形。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。
瓶子 lq

[发明专利]一株连翘内生细菌LQ-A及其分离、纯化方法和应用-CN201510638009.X在审
发明人：牛明福;张婷婷;万鹏;卢雪;雷俊红;司晶丽;马轶芳 -专利权人：河南科技大学
申请日： 2015-09-30 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： C12N1/20 文献下载
摘要：一株连翘内生细菌LQ-A及其分离、纯化方法和应用；所述连翘内生细菌LQ-A，保藏编号为CGMCC No.10805；该的连翘内生细菌LQ-A的分离与纯化方法，称连翘叶片，水冲洗，依次用乙醇水溶液和HgCl
株连翘内生细菌 lq 及其分离纯化方法应用

[发明专利]曝光装置及元件制造方法-CN201210184248.9有效
发明人：长坂博之;奥山猛 -专利权人：尼康股份有限公司;尼康工程股份有限公司
申请日： 2005-06-09 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置(EX)，是透过液体(LQ)将曝光用光(EL)照射于基板(P)，以使基板(P)曝光，具备：光学系统(PL)，具有与基板(P)对向的端面(T1)，使照射于基板(P)的曝光用光(EL)通过；以及液浸机构(11，21等)，是供应液体(LQ)且回收液体；该液浸机构具有板构件(172D)，该板构件具有以和基板(P)平行对向的方式配置于基板(P)与光学系统端面(T1)之间、且配置成包围曝光用光(EL)的光路的平坦面(75)；从供应口(12)将液体(LQ)供应至光学系统端面(T1)与板构件(172D)间的空间(G2)，且透过液体回收口(22)回收从该供应口供应的液体，该回收口(22)是在较该板构件的平坦面(75)更离开曝光用光
曝光装置元件制造方法