专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]有限距成像系统垂轴放大率的测量方法-CN201510881901.0在审
  • 金春水;谢耀;王丽萍;郭本银;王君 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2015-12-04 - 2016-03-09 - G01M11/02
  • 有限距成像系统垂轴放大率的测量方法,涉及光学系统检测领域,解决现有光学系统的垂轴放大率测量方法需要借助在物像面安置小孔板的方式,存在执行成本高,且不易控制实现的问题,在光学系统中载入带标记的光学元件面形,对光学系统进行优化,建立修正后的光学系统模型;通过系统物平面的位移量和与像平面的位移量的比例关系,计算轴向放大率;根据垂轴放大率和轴向放大率的关系,计算垂轴放大率,并建立计算垂轴放大率与设计的垂轴放大率的对应关系;确定光学系统物平面的位移量的区间和光学系统像平面的初始位置;采用修正后的模型,对实际光学系统进行装配和装调;获得实际光学系统的垂轴放大率。
  • 有限成像系统放大率测量方法
  • [发明专利]光学系统及虚拟现实设备-CN202211695470.5在审
  • 申成哲 - 江西晶浩光学有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-06-23 - G02B27/01
  • 本发明公开了一种光学系统及虚拟现实设备,光学系统共有三片具有屈折力的透镜,沿光轴从成像侧至像源侧依次为第一透镜、第二透镜和第三透镜,第一透镜的成像面和光源面之间沿光轴从成像侧至像源侧还依次设有偏振反射膜、相位延迟片和分光膜,且光学系统满足以下关系式:1.35≤TTL/IMGH≤1.65,TTL是第一透镜的成像面至所述光学系统的光源面于光轴上的距离,IMGH为所述光学系统的光源面上最大有效光源区域对角线长的一半本发明提供的光学系统及虚拟现实设备,能够在实现光学系统轻薄化设计的同时,提高光学系统的成像性能。
  • 光学系统虚拟现实设备
  • [发明专利]光学系统、镜头模组和电子设备-CN202110554354.0有效
  • 谭怡翔;党绪文;李明 - 江西晶超光学有限公司
  • 2021-05-20 - 2022-08-30 - G02B13/00
  • 一种光学系统、镜头模组和电子设备,光学系统沿光轴由物侧至像侧依次包含:具有屈折力的第一透镜至第四透镜,第一透镜具有正屈折力,其物侧面和像侧面于近光轴处均为凸面,第二透镜的像侧面于近光轴处为凹面,以及棱镜光学系统满足关系式:198f*43/(2*ImgH)260;其中,f为光学系统的有效焦距,ImgH为光学系统的最大视场角所对应的像高的一半。通过设置棱镜,使得光线偏转90°,增加了光学系统的后焦,同时,对第一透镜至第四透镜的面型和屈折力进行合理设计,并使光学系统满足所述关系式,可确保光学系统具备超长焦的特性,实现背景虚化、远距离拍摄等特性。
  • 光学系统镜头模组电子设备
  • [发明专利]投影光学系统、曝光装置和器件制造方法-CN201010297954.5有效
  • 深见清司 - 佳能株式会社
  • 2010-09-27 - 2011-04-27 - G02B27/00
  • 本发明公开了一种投影光学系统、曝光装置和器件制造方法,该投影光学系统具有第1光学系统、第2光学系统、第3光学系统以及控制部分,其中,将投影光学系统的、与第1方向正交的第2方向和与第1方向和第2方向正交的第3方向上的倍率的应修正量分别设为A和B,将第3光学系统对投影光学系统的第2方向和第3方向上的倍率的修正量设为C时,控制部分控制第1光学系统、第2光学系统和第3光学系统,使得修正量C成为应修正量A与应修正量B之间的量,第1光学系统对第2方向上的倍率的修正量成为(A-C),第2光学系统对第3方向上的倍率的修正量成为(B-C)。
  • 投影光学系统曝光装置器件制造方法
  • [发明专利]平视显示装置以及反射光学系统-CN201680048784.2有效
  • 横江润也;南原孝启 - 株式会社电装
  • 2016-08-08 - 2020-05-08 - G02B27/01
  • 平视显示装置具备照明光学系统(22)、成像光学系统(10)以及反射光学系统(34)。照明光学系统(22)投射表示信息的光源光。成像光学系统(10)使由照明光学系统(22)投射的光源光投影于投影面。反射光学系统(34)具有:使红外线区域的电磁波透过并反射可见光区域的电磁波的电介质多层膜。反射光学系统(34)构成为:包含来自照明光学系统(22)的光源光的至少一部分波长的对象波长的相位差成为大于‑π/2[rad]且小于π/2[rad]的范围。反射光学系统(34)配置为:在从照明光学系统(22)至成像光学系统(10)的光源光的路径上,来自照明光学系统(22)的光源光的偏振光轴α相对于入射面成为0度<α<90度<α<180度。
  • 平视显示装置以及反射光学系统
  • [发明专利]照相机-CN98125303.2无效
  • 儿玉晋一;杉田幸彦 - 奥林巴斯光学工业株式会社
  • 1998-12-11 - 2004-01-28 - G03B19/02
  • 以一种改进的照相机包括彼此独立存在的照相光学系统和取景器光学系统。为使得取景器观察图象不会被照相机透镜遮蔽,照相机包括用于分别驱动照相光学系统和取景器光学系统的驱动电路,以及用于控制照相光学系统光学系统控制电路,其控制方式使得取景器光学系统将不会被照相光学系统阻挡。
  • 照相机
  • [发明专利]用双层谐衍射元件的红外光学系统-CN200610016166.8无效
  • 王肇圻;范长江;张梅 - 南开大学
  • 2006-10-19 - 2007-03-28 - G02B27/00
  • 本发明涉及两个改进型Petzval红外双波段探测光学系统,红外双波段单层谐衍射光学系统和红外双波段双层谐衍射光学系统。本发明红外双波段单层谐衍射光学系统包括折射透镜和折射/谐衍射混合透镜,红外双波段双层谐衍射光学系统包括折射透镜和双层折射/谐衍射混合透镜。红外双波段单层谐衍射光学系统特点是将谐衍射透镜引入到红外单波段Petzval物镜系统中,实现了在中红外3.4-4.2μm和热红外8-11μm两个波段的双光谱探测。为改善此系统的衍射效率,利用双层谐衍射元件对红外双波段单层谐衍射光学系统做了改进,设计出红外双波段双层谐衍射光学系统。此系统特点是双层折射/谐衍射混合元件使得系统衍射效率得到极大的改善,在设计波段的各个波长下衍射效率达到90%以上,像面对比度提高,成像质量优良,为红外系统设计提供了一种新的器件。
  • 双层衍射元件红外光学系统
  • [发明专利]具有色散器件的自由曲面光学系统设计方法-CN201810139879.6有效
  • 张本奇;朱钧;金国藩;范守善 - 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
  • 2018-02-09 - 2020-09-08 - G02B27/00
  • 本发明涉及一种具有色散器件的自由曲面光学系统设计方法,包括以具有色散器件的自由曲面光学系统的狭缝为物,构建一非色散球面光学系统;在所述非色散球面光学系统中的一个非色散球面上放置一色散器件,进而得到一色散球面光学系统;将色散球面光学系统构建为一色散自由曲面光学系统;以及将特征光线与所述色散自由曲面光学系统中自由曲面的的交点定义为该自由曲面上的特征数据点,采用迭代算法,保持色散自由曲面光学系统中的每个自由曲面上的特征数据点的坐标不变,按照物像关系重新计算特征数据点的法向,然后用自由曲面上特征数据点的坐标和重新计算得到的法向拟合得到新的自由曲面,进而得到最终的具有色散器件的自由曲面光学系统
  • 具有色散器件自由曲面光学系统设计方法
  • [发明专利]一种复合成像模拟光学系统-CN201410715206.2有效
  • 任小婉;张玉国;孙红胜 - 北京振兴计量测试研究所
  • 2014-12-02 - 2015-04-08 - G02B27/00
  • 本发明提供一种复合成像模拟光学系统,该系统主要由反射式红外光学系统和透射式可见光、激光光学系统组成,依次包括大口径反射镜、第一透镜、第二透镜和第三透镜。本发明通过采用反射式与透射式相结合的光学系统设计方式,通过合理匹配透镜的材料、半径、距离和厚度等参数,可满足红外光学系统±0.5°的成像质量要求和可见光、激光光学系统满足±5.5°观测范围的要求,从而最终实现三光合一共口径光学系统的性能要求并且使整个系统装置整体尺寸最小,从而满足整个系统装置的整体要求。
  • 一种复合成像模拟光学系统
  • [发明专利]投射光学设备-CN200880024654.0有效
  • 高浦淳;藤田和弘;安部一成;山影明广;永濑修;河野义次 - 株式会社理光
  • 2008-09-02 - 2010-06-16 - G03B21/14
  • 一种投射光学设备,能够提供高图像质量以及具有减小的尺寸。投射光学设备包括光阀和投射光学系统,该投射光学系统包括第一光学系统(5)和第二光学系统(3′),该第一光学系统(5)具有透射折射元件,该第二光学系统(3′)具有反射折射元件。形成在光阀上的图像被投射光学系统投射在投射表面(4)上。第一光学系统(5)中的光轴被纵向和横向折转。第一光学系统的第一组(5A)被容纳一个在空间(无用空间)内,该空间的下限被第二光学系统(3′)的下边缘限定,借此减少设备的深度。
  • 投射光学设备

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