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- [发明专利]一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置-CN202211383530.X在审
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李云居
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中国原子能科学研究院
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2022-11-07
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2023-03-03
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C23C14/24
- 本发明涉及一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置，所述装置包括真空靶室、旋转靶盘、磁控溅射源、蒸镀坩埚以及蒸镀电极，在真空靶室中，蒸镀坩埚与旋转靶盘间隔一定距离，蒸镀坩埚设置于蒸镀电极之间，蒸镀电极与真空靶室绝缘密封，穿过真空靶室与真空靶室外的蒸镀电源相连，磁控溅射源设置于旋转靶盘另一侧，磁控溅射源与真空靶室绝缘密封，穿过真空靶室与真空靶室外的溅射电源相连，真空靶室预留氩气充气孔以向真空靶室充入高纯氩气进行保护，在真空靶室盖板上设置手套箱，以在制靶完成后在氩气氛围中对反应靶进行封装。采用本发明中公开的装置，集成蒸镀和磁控溅射技术,将反应靶中氧杂质含量尽可能降至最低，为高精度实验测量奠定可靠基础。
- 一种旋转磁控溅射复合型装置
- [实用新型]一种前开门式类金刚石碳膜沉积装置-CN201620267107.7有效
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向勇;傅绍英;徐子明;孙力
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成都西沃克真空科技有限公司
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2016-03-31
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2016-08-31
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C23C16/26
- 本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种前开门式类金刚石碳膜沉积装置，包括真空室、门体、阳极靶、阴极靶、驱动机构、抽真空装置和充气引入座；真空室的上盖与真空室的室底相对，真空室的侧壁连接上盖和室底，以形成一腔室；侧壁上开设有一开口；门体与真空室连接，用于盖设于开口；阳极靶和阴极靶设置在真空室的内部，且，阳极靶与阴极靶相对设置，阴极靶位于室底与阳极靶之间；驱动机构穿过室底与阴极靶相连；抽真空装置与真空室连通；充气引入座设置在室底本申请在真空室的侧壁上设置门体，在需要清理沉积物垃圾时，打开侧壁上的门体，将真空吸头从真空室的侧壁伸到内部进行清扫，真空吸头不再需要拐弯，易于清理底部的沉积物垃圾。
- 一种开门金刚石沉积装置
- [发明专利]一种真空磁控溅射镀膜机-CN202110451761.9有效
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李成林;郝明;杜雪峰
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辽宁分子流科技有限公司
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2021-04-26
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2023-09-08
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C23C14/35
- 本发明公开了一种真空磁控溅射镀膜机，包括镀膜室、圆柱磁控靶、靶管自动更换装置、控制系统和真空系统；圆柱磁控靶设置在镀膜室内，包括靶管、靶芯部和靶控制器；靶管自动更换装置包括储存室、更换室、回收室和更换组件；更换室设置在真空磁控溅射镀膜机的镀膜室的侧部，且与镀膜室之间通过主真空阀连接；储存室和回收室分别布置在更换室的两侧，储存室与更换室之间设置有上位真空阀，回收室与更换室之间设置有下位真空阀；更换室设置有换靶真空系统和放气阀更换组件包括推拉杆和推拉杆驱动器；当主真空阀打开时，推拉杆与靶管进行对接后可在推拉杆驱动器的控制下对靶管进行推拉，完成对靶管的更换动作。
- 一种真空磁控溅射镀膜
- [实用新型]一种类金刚石碳膜沉积装置-CN201620266888.8有效
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向勇;傅绍英;徐子明;杨小军;闫宗楷
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成都西沃克真空科技有限公司
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2016-03-31
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2016-08-31
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C23C16/26
- 本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种类金刚石碳膜沉积装置，真空室的上盖与真空室的室底相对，真空室的侧壁连接上盖和室底，以形成一腔室；侧壁上开设有一开口；门体与真空室连接，用于盖设于开口；电场平衡机构可拆卸地连接在开口处的侧壁上，用于补全开口，电场平衡机构呈板状，且，电场平衡机构的尺寸大于等于开口的尺寸；阳极靶和阴极靶设置在真空室的内部，且，阳极靶与阴极靶相对设置，阴极靶位于真空室的室底与阳极靶之间；驱动机构穿过室底与阴极靶相连；抽真空装置与真空室连通；充气引入座设置在室底。本申请通过在真空室侧壁上的开口处增设电场平衡机构，从而能够保证真空室内的电场平衡。
- 种类金刚石沉积装置
- [实用新型]一种双通道类金刚石碳膜沉积装置-CN201620267625.9有效
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向勇;傅绍英;徐子明;杨小军;孙力
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成都西沃克真空科技有限公司
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2016-03-31
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2016-08-31
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C23C16/26
- 本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种双通道类金刚石碳膜沉积装置，真空室的上盖与真空室的室底相对，真空室的侧壁连接上盖和室底；阳极靶和阴极靶设置在真空室的内部，阳极靶与阴极靶相对设置，阴极靶位于真空室的室底与阳极靶之间；驱动机构穿过室底与阴极靶相连；第一连接通道和第二连接通道在并联后，串联在抽真空装置和真空室之间，连通抽真空装置与真空室，第一连接通道的直径为第二连接通道的直径的3倍；第一调节阀设置在第一连接通道与真空室连通处；第二调节阀设置在第二连接通道与真空室连通处。本申请通过在抽真空装置与真空室之间设置两个连接通道，通过对两个连接通道的开闭程度的调节，能够精确的控制沉积装置内部气流的均匀性。
- 一种双通道金刚石沉积装置
- [发明专利]一种离子束生物辐照装置及方法-CN201811390618.8有效
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詹福如;吴丽芳;李军
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中国科学院合肥物质科学研究院
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2018-11-21
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2021-01-26
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G21K5/00
- 本发明公开一种离子束生物辐照装置及方法，包括真空靶室、抽真空系统，抽真空系统与真空靶室连通进行抽真空；真空靶室设置靶室舱门、进气阀门、离子源，待辐照的生物样品置于真空靶室中，离子源产生离子束辐照在生物样品上；抽真空系统包括冷阱、无油分子泵、无油前级泵，真空靶室、冷阱、无油分子泵、无油前级泵通过管路依次连通，真空靶室与冷阱之间设总阀门，总阀门与真空靶室之间设置颗粒过滤网，冷阱与无油分子泵之间设置无油分子泵阀门，抽真空系统还包括旁抽阀门，旁抽阀门第一端连接在冷阱与无油分子泵阀门之间，旁抽阀门第二端连接在无油分子泵与无油前级泵之间。本发明的优点是：可有效减少抽真空时水汽、油汽、颗粒等对泵组的影响。
- 一种离子束生物辐照装置方法
- [实用新型]真空练靶装置-CN202222619129.3有效
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曹时义;龚文安;王俊锋
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广东鼎泰高科技术股份有限公司
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2022-09-30
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2023-02-17
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C23C14/32
- 本实用新型公开了一种真空练靶装置，包括阳极筒、与阳极筒连接的真空腔室以及用于封闭真空腔室的门框组件；阳极筒具有密封的第一端以及敞口的第二端，阳极筒的第一端上安装有靶材座，靶材座上安装有靶材，靶材位于阳极筒的内侧；真空腔室为两端开口结构，真空腔室的一端与阳极筒的第二端连接，真空腔室的另一端安装有门框组件；门框组件与真空腔室可拆卸连接，门框组件上还设有透明视窗，透明视窗用于观察真空练靶装置的内侧的靶材烧蚀的状态。本发明真空练靶装置仅包括阳极筒、真空腔室以及门框组件，结构非常小巧；在可视化条件下，可实时观测靶材烧蚀的状态，可让靶材尽快达到生产要求状态，在装入弧源使用时，可立马投入生产，稳定烧蚀。
- 真空装置
- [实用新型]真空磁控溅射镀膜机-CN201020539485.9有效
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林锡强;陈孝田
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温州市佳能真空电镀设备科技有限公司
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2010-09-17
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2011-04-13
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C23C14/35
- 本实用新型涉及一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的磁控溅射装置，磁控溅射装置包括与真空室体固定连接的磁控靶法兰、与磁控靶法兰固定连接并置于真空室中的铁轭、磁铁、磁控靶阴极板和靶材，还包括冷水套、进水道座和出水道座，进水道座和出水道座与磁控靶法兰固定连接，冷水套固设在进水道座和出水道座的里端，铁轭、磁铁、磁控靶阴极板、靶材依次固定在冷水套上，在冷水套和磁控靶阴极板之间构成冷却水通道其有益的技术效果是：冷却水通道对靶材和磁铁进行冷却，具有冷却效果好的优点，进而保证镀膜质量。
- 真空磁控溅射镀膜
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