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[发明专利]一种提高ITO薄膜性能的磁控溅射工艺-CN201410448333.0无效
发明人：金井升;蒋方丹;金浩;陈康平 -专利权人：浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
申请日： 2014-09-05 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高ITO薄膜性能的磁控溅射工艺，步骤如下：选取高透玻璃衬底，将其放入磁控溅射设备中；将磁控溅射设备的温底调至300℃，抽真空度至10^(-4)Pa；在磁控溅射设备中通入氩气与氧气的混合气体；开启磁控溅射设备电源，进行ITO薄膜沉积；ITO薄膜沉积后，关闭磁控溅射设备电源；在磁控溅射设备中继续抽真空，保持温度300℃、真空度为10^(-4)Pa，时间为30min；在磁控溅射设备中充气至大气压本发明增加原位真空低温退火步骤，使ITO薄膜光学透过率达到90%～95%，方块电阻在30Ω/sq以下，且无需改变现有设备。
一种提高 ito 薄膜性能磁控溅射工艺

[发明专利]一种磁控溅射镀膜的生产工艺-CN201910310994.X在审
发明人：樊静波 -专利权人：广东东华光电科技有限公司
申请日： 2019-04-18 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射镀膜的生产工艺，包括以下生产步骤：步骤一：底膜制造，将磁控溅射膜的底膜进行原膜的生产制造，生产得出磁控溅射膜的底膜；步骤二：将磁控溅射膜的底膜加入到真空加工设备中，进行第一次磁控溅射的镀膜工艺，从而在磁控溅射膜的底膜上形成一层磁控溅射膜层；步骤三：将带有磁控溅射膜层的底膜在真空设备中的进行第二次磁控溅射的镀膜工艺，从而得到磁控溅射膜，通过在真空环境下的磁控溅射镀膜制造，确保了在镀膜时，周边环境的稳定同时可以很好的控制镀膜时镀膜所参与的物质
磁控溅射底膜磁控溅射镀膜镀膜镀膜工艺膜层生产工艺制造真空加工设备生产步骤真空环境真空设备周边环境膜材原膜生产

[发明专利]一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备-CN202211351999.5在审
发明人：张永胜;解传佳;周振国;武瑞军;彭孝龙;莫超超 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及真空溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备。磁控溅射阴极装置包括靶材筒组件、磁棒组件及汇聚磁铁组件，靶材筒组件位于真空腔室内，磁棒组件位于靶材筒组件的内部，汇聚磁铁组件设置在靶材筒组件靠近真空腔室侧壁的一侧，汇聚磁铁组件产生的磁力线能够朝靠近待镀膜基片的方向挤压磁棒组件产生的磁力线，避免溅射的原子沉积到真空腔室的侧壁上，使更多的原子沉积到待镀膜基片上。磁控溅射设备通过应用上述磁控溅射阴极装置，减少了靶材的损耗，降低了生产成本，提升了产品良率，延长了磁控溅射设备的维护周期，提高了设备的开机效率。
一种磁控溅射阴极装置设备

[发明专利]一种离子束磁控溅射复合镀膜的装置-CN201310576275.5有效
发明人：周灵平;朱家俊;彭坤;李德意;杨武霖;李绍禄 -专利权人：湖南大学
申请日： 2012-04-01 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种离子束磁控溅射复合镀膜的装置。该装置将离子束、磁控溅射两种镀膜技术集成于一个真空室，通过设计多个镀膜工位并经样品台旋转与镀膜工位重合完成不破坏真空情况下的复合镀膜，设备可实现离子束溅射沉积、离子束辅助沉积、离子束直接沉积、单靶磁控溅射沉积、双靶磁控溅射聚焦共沉积、双靶磁控溅射垂直沉积多层膜、离子束磁控溅射复合镀膜等多种镀膜方式，大大扩展了设备的生产和研究功能。利用该装置采用离子束磁控溅射两步法沉积微晶硅薄膜可充分提高微晶硅薄膜的晶化率；同时可有效减小薄膜与基体间内应力，增加薄膜与基体间的结合强度；镀膜在同一真空室内完成，节约设备成本。
一种离子束磁控溅射复合镀膜装置

[发明专利]一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置-CN201810019624.6在审
发明人：崔岸;孙文龙;刘芳芳;张睿;程普;郝裕兴;陈宠 -专利权人：吉林大学
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-05-08 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本发明提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
一种汽车窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置

[发明专利]HJT电池生产中操控磁控溅射设备的方法-CN202111613450.4有效
发明人：杨骥;鲁林峰;黄金;李东栋;杨立友;王继磊;贾慧君 -专利权人：晋能清洁能源科技股份公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种HJT电池生产中操控磁控溅射设备的方法，属于太阳能电池生产技术领域。包括：将ITO旋转靶材安装在磁控溅射设备的靶位上；给磁控溅射设备抽真空，将磁控溅射设备的真空度抽至2E‑4Pa以下；将靶材的转速设置为5rap，并开启靶材旋转；以200sccm的流量向磁控溅射设备中通入Ar，以0.8‑3.5sccm的流量通入O2；开启磁控溅射设备的DC电源，调整功率为9.3kw，将打弧阈值减小为溅射工艺通用范围的50％；开启磁控溅射设备进行硅片镀膜。
hjt 电池生产操控磁控溅射设备方法

[发明专利]控制磁控溅射设备镀膜的方法-CN202211706326.7在审
发明人：杨骥;鲍少娟;黄金;师海峰;冀杨洲;高英杰;杨泽奇;潘国鑫;杨文亮;任法渊;李莎;张娟;吕霞 -专利权人：晋能清洁能源科技股份公司;晋能光伏技术有限责任公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种控制磁控溅射设备镀膜的方法，属于磁控溅射镀膜技术领域。包括：将全新的靶材安装在磁控溅射设备的靶位上，确保靶材表面和接缝洁净、无破损；建立磁控溅射设备的真空环境，并开启加热；向磁控溅射设备中通入Ar和O2；开启磁控溅射设备的射频电源，并开启射频电源的脉冲调制模式，设定脉冲频率为5KHz，脉冲占空比为85％，并将磁控溅射设备的设定功率调整为磁控溅射设备常规功率的117％；开启磁控溅射设备并调整其传输速度后，开始进行硅片镀膜。
控制磁控溅射设备镀膜方法

[发明专利]一种锌及锌合金表面磁控溅射制备铜薄膜方法-CN202210665209.4在审
发明人：孙世能;马国峰;王梓垚;栾雪竹 -专利权人：沈阳大学
申请日： 2022-06-14 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：本发明属于材料表面处理技术领域，具体涉及一种锌及锌合金表面磁控溅射制备铜薄膜方法。按照以下步骤进行（1）采用锌及锌合金作为衬底材料经过超声波清洗后放入磁控溅射真空室中的样品台上；（2）将纯铜靶材放入磁控溅射真空室的靶位上；（3）抽真空至磁控溅射室的真空度≤2×10‑5Pa；（4）通过磁控溅射在锌及锌合金表面上制备铜薄膜。本发明采用磁控溅射方法在锌及锌合金制备的铜薄膜膜层厚度均匀，时间短，设备简单，容易操作，成本低，适用于工业生产。
一种锌合金表面磁控溅射制备薄膜方法

[实用新型]真空镀膜机磁控溅射靶装置-CN201020628684.7无效
发明人：黄瑞安 -专利权人：黄瑞安
申请日： 2010-11-26 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镀膜设备，具体涉及一种真空镀膜机磁控溅射移动靶装置。本实用新型的真空镀膜机磁控溅射靶装置，包括导轨、移动装置、磁控溅射靶、牵引装置和驱动装置，其中导轨位于真空镀膜室的上方，移动装置安装在导轨中，磁控溅射靶装置安装在移动装置上；牵引装置一端连接移动装置，另一端连接驱动装置本实用新型的真空镀膜机磁控溅射靶装置为移动式的磁控溅射靶，其结构简单，易于控制，镀膜均匀，尤其适用于大面积工件的镀膜。
真空镀膜磁控溅射装置

[发明专利]一种双极脉冲磁控溅射方法-CN201811025899.7有效
发明人：李刘合;谷佳宾;苗虎;徐晔 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2018-09-04 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种双极脉冲磁控溅射方法，包括：一、将试样置于真空室内的样品台上，连接相关磁控溅射镀膜设备；二、完成对真空室的抽真空；三、设置双极脉冲磁控溅射电源的参数；四、向真空室内通入工作气体，通过双极脉冲磁控溅射电源施加双极脉冲电压，进行溅射沉积，完成涂层制备。本发明的优点：本发明方法可在单一靶材上实现双极脉冲磁控溅射技术，在初始负脉冲结束后施加正脉冲，驱使负脉冲产生的离子飞离靶表面附近区域，提高离子产出效率，并能够消除靶表面的电荷积累，抑制靶的打火。
一种脉冲磁控溅射方法

[实用新型]真空磁控溅射镀膜机-CN201720297494.3有效
发明人：朱国朝;袁安素;沈学忠;温振伟 -专利权人：纳狮新材料股份有限公司
申请日： 2017-03-24 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型是关于真空磁控溅射镀膜机。本实用新型一实施例提供一真空磁控溅射镀膜机，其包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中用于放置镀膜产品的工件转架以及设置在真空室中的磁控溅射装置，其中磁控溅射装置包含与真空室固定连接的磁控靶法兰，其中真空磁控溅射镀膜机还包括设置于磁控溅射装置附近的纳米粉末导入装置。本实用新型实施例提供的真空磁控溅射镀膜机可制作具有高硬度、良好的耐磨损性能以及可包含多种其它性能的涂层。
真空磁控溅射镀膜

[发明专利]磁控溅射真空室进气装置及磁控溅射设备-CN201510003435.6有效
发明人：张启平;孙文波 -专利权人：合肥京东方显示光源有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-01-05 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种磁控溅射真空室进气装置及使用该进气装置的磁控溅射设备，该磁控溅射真空室进气装置包括用于接收并混合气体的混气盒、将气体通入真空室内的进气盒以及连接两者的连接管，所述混气盒具有一个或多个进气管。该进气装置可提高气体进入真空室后分布的均匀性，可提高在通入混合气体时气体混合的效果；还可有效地降低在磁控溅射镀膜进气过程中气体对真空室内精密设备的冲击力，从而延长设备的使用寿命。
磁控溅射真空室进气装置设备

[实用新型]一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置-CN201820032576.X有效
发明人：崔岸;孙文龙;刘芳芳;张睿;程普;郝裕兴;陈宠 -专利权人：吉林大学
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本实用新型提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
镀膜区磁控溅射镀膜装置汽车风窗玻璃卸载区装载区磁控溅射阴极本实用新型溅射阴极真空激光测距仪曲率玻璃表面镀膜磁控溅射功率真空镀膜设备膜厚均匀性镀膜表面对称设置溅射功率均匀性真空腔镀膜溅射离子保证反馈

[实用新型]一种曲柄摇杆式磁控溅射设备阴极挡板-CN201821531935.2有效
发明人：高鹏 -专利权人：昆山彰鑫金属真空热处理科技有限公司
申请日： 2018-09-19 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种曲柄摇杆式磁控溅射设备阴极挡板，包括真空室和磁控溅射阴极，所述磁控溅射阴极位于真空室内；还包括驱动机构、曲柄挡板、摇杆挡板以及滑套，所述驱动机构的转轴外围设置有轴套，所述曲柄挡板的上端与轴套连接，所述曲柄挡板的底端通过第一铰链与摇杆挡板的上端铰接，所述摇杆挡板的底端通过第二铰链与滑套铰接，所述真空室内设置有导向杆，所述滑套位于导向杆上，所述导向杆与磁控溅射阴极的位置相对应。本实用新型可减小磁控溅射阴极的挡板运动时对空间的需求，降低磁控溅射阴极‑工件距离，并有效利用真空室的空间。
磁控溅射阴极曲柄挡板摇杆挡板导向杆滑套磁控溅射设备本实用新型曲柄摇杆式驱动机构阴极挡板上端真空室底端铰接铰链室内挡板运动工件距离轴套连接减小轴套转轴外围

[发明专利]一种连续式磁控溅射装置及连续式磁控溅射的方法-CN201711267226.8在审
发明人：毛华云;梁礼渭 -专利权人：江西金力永磁科技股份有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2018-03-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种连续式磁控溅射装置，包括含有真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室的磁控溅射炉；所述真空腔室设置在所述磁控溅射腔室的一侧，所述真空腔室和磁控溅射腔室之间用第一可活动装置隔开；所述冷却腔室设置在所述磁控溅射腔室的另一侧，所述冷却腔室和磁控溅射腔室之间用第二可活动装置隔开；所述真空腔室设置于所述磁控溅射炉的入口处，所述冷却腔室设置于述磁控溅射炉的出口处。本发明提供了一种连续式磁控溅射装置，具有连续的三个腔室，按工作顺序分别为真空腔室、磁控溅射腔室、冷却腔室。三个腔室之间以可活动装置隔开，各自工作，互不干扰，从而实现了生产连续性，减少抽真空和冷却的等待时间，提高生产效率。
一种连续磁控溅射装置方法

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